镓钯靶材（GaPd）

产品简介（Introduction）

镓钯靶材（GaPd）是一种由镓（Ga）与钯（Pd）构成的高性能金属间化合物靶材，具备优异的催化性能、稳定的电学与光学特性以及出色的化学惰性。其薄膜在氢传感器、催化薄膜、电极材料、光电功能层以及新型半导体器件中表现非常突出，是科研与工业制造中应用愈发广泛的功能靶材。

Ga–Pd 合金具有稳定的晶体结构、较高的热稳定性和良好的薄膜附着性，在薄膜沉积过程中易形成均匀、致密、低缺陷密度的膜层。

产品详情（Detailed Description）

镓钯靶材通常通过高纯金属熔炼、粉末冶金、热等静压（HIP）、高温烧结或真空合金化方式制备。钯的加入提供卓越的贵金属特性，而镓可改善合金的机械性能及成膜特征。

可提供规格如下：

• 纯度：99.9% – 99.99%

• 可选成分比：Ga₅₀Pd₅₀ / Ga₄₀Pd₆₀ / Ga₆₀Pd₄₀（支持完全定制）

• 直径：Φ25–Φ300 mm

• 厚度：3–6 mm

• 致密度：≥97%

• 背板键合：铜背板（Cu）、钛背板（Ti）、铟焊（In Bonding）

材料特点与性能优势：

• 高化学稳定性与优异耐腐蚀性

• 出色的膜层均匀性与低颗粒率

• 适用于高温、高真空环境

• 良好的电学性能和贵金属性质

• 膜层附着力高、应力低

• 氢吸附–脱附响应良好（应用于传感器）

应用领域（Applications）

镓钯靶材在贵金属薄膜、传感薄膜及电子结构薄膜中应用广泛，包括：

• 氢气传感器薄膜（Hydrogen Sensors）

• 催化薄膜与贵金属功能层

• 电极、接触层（Electrodes / Contacts）

• 光电器件薄膜（Optoelectronics）

• 半导体器件的阻挡层 / 复合层

• 新型金属间化合物薄膜研究

• 贵金属替代材料与节钯技术研究

• 科研功能薄膜工程

GaPd 的吸氢性能与贵金属特性使其特别适用于下一代智能传感器和功能薄膜设计。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

1. GaPd 靶材适用于哪些溅射工艺？
适用于 DC / RF / 磁控溅射等主流系统。

2. GaPd 是否适合氢气传感器薄膜？
非常适合，因其优异的吸氢–脱氢和表面催化特性。

3. 成分比例能否定制？
可以，按催化性能、电阻率或薄膜结构需求定制。

4. 是否易氧化？
钯的加入提升抗氧化性，整体稳定性较高。

5. 是否适用于高温薄膜？
GaPd 具有良好的热稳定性，可承受高温退火。

6. 是否可做大尺寸靶材？
支持 4″、6″、8″、12″ 靶材规格。

7. 是否提供检测报告？
出厂附带纯度检测、成分分析及显微结构检测。

包装与交付（Packaging）

• 真空密封

• 防震泡棉

• 出口级木箱 / 抗压纸箱

• 独立追溯编号

确保运输过程中的洁净与安全。

结论（Conclusion）

镓钯靶材（GaPd）以其优异的贵金属性能、高稳定性和卓越的薄膜形成能力，在催化薄膜、氢传感器、光电器件和功能薄膜中具有重要应用价值。
苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密度、多规格 GaPd 靶材，满足科研与工业客户的不同需求。

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