您可以向我们发送询盘,以获取更多信息和最新价格。
氮化铕(EuN)是一种稀土氮化物材料,具有离子型化学键、优异的热稳定性和独特的磁、电、光学特性。EuN 特别以其可调磁性、宽带隙半导体行为以及与稀土元素相关的强电子关联效应著称,在自旋电子学、磁光薄膜、光电功能材料和新型半导体中具有重要研究价值。
氮化铕靶材(EuN Sputtering Target)广泛用于磁控溅射沉积高纯 EuN 薄膜,是量子材料、磁性薄膜、自旋极化器件和高性能光电结构的重要材料来源。
典型的 EuN 靶材采用以下方式制备:
高纯稀土 + 高纯氮源直接合成(Direct Nitridation)
固相反应(Solid-State Reaction)
真空烧结(Vacuum Sintering)
热压烧结(Hot Pressing)
CIP + 高温致密化(Cold Isostatic Pressing)
产品参数(典型值):
纯度:99.9%(3N)
化学组成:EuN(可提供轻微偏 Eu / 偏 N)
颜色:深灰–黑色
致密度:≥ 95%–98% 理论密度
晶体结构:NaCl 型立方结构(rock-salt structure)
尺寸:25–300 mm 圆形靶、矩形靶可定制
厚度:3–6 mm
背板结合:Cu / Ti / In bonding(可选)
材料特点:
高纯低氧
机械强度稳定
高致密度减少颗粒产生
可用于高功率 RF / Pulsed DC 溅射
膜层磁性与光学性质高度可控
EuN 因其可调磁性(包括铁磁性与反铁磁性)成为领先材料之一,用于:
自旋过滤器
自旋极化注入层
自旋阀结构
单层或纳米叠层磁性结构
适用于:
磁光 Kerr 研究
磁光调制器件
稀土磁性薄膜生态体系
其 4f 电子结构使其磁—光响应突出。
EuN 是宽带隙氮化物,可应用于:
光学窗口层
高耐热电子薄膜
近红外调控结构
可与 GaN、AlN 等氮化物兼容。
由于稀土 4f 态,EuN 在以下方向具有重要价值:
强关联电子系统
磁性拓扑材料探索
新型量子效应验证
EuN 的高热稳定性与耐化学性使其适合:
真空系统保护膜
高温元件薄膜
防氧化深色功能涂层
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%(3N) | 高纯减少薄膜缺陷 |
| 成分 | EuN(可调偏 Eu / 偏 N) | 支持科研级定制定比 |
| 致密度 | ≥95–98% TD | 高致密减少颗粒与 arcing |
| 直径 | 25–300 mm | 兼容各类溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 决定靶材寿命与沉积效率 |
| 溅射方式 | RF / Pulsed DC | 陶瓷靶材推荐 RF |
| 背板结合 | Cu / Ti / In | 提升散热能力 |
| 工艺 | SSR / HP / CIP | 保证均匀微结构 |
| 材料 | 特点 | 应用 |
|---|---|---|
| EuN | 可调磁性、宽带隙 | 自旋电子学、磁光薄膜 |
| GdN | 铁磁性更强 | 自旋极化注入层 |
| SmN | 反铁磁性显著 | 量子磁性研究 |
| GaN / AlN | 氮化物半导体 | 光电与电子器件 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| EuN 靶材适合哪种溅射方式? | RF 和脉冲 DC 最稳定。 |
| 可否调整氮含量? | 可以,支持轻度非化学计量配比。 |
| EuN 薄膜具备磁性吗? | 具备,并可通过工艺调控铁磁/反铁磁特性。 |
| 是否支持大尺寸磁控靶? | 支持 8–12 英寸靶材定制。 |
| 靶材是否容易开裂? | 高致密 HP/HIP 工艺显著减少风险。 |
| 是否可用于 PLD? | 可以提供 PLD/MBE 专用靶材。 |
| EuN 是否易氧化? | 比金属铕稳定,但建议真空密封储存。 |
铝塑真空封装
防静电袋包装
多层防震结构
出口级加固木箱
每片靶材附检测报告(纯度、密度、尺寸、微观结构等)
氮化铕靶材(EuN)凭借其独特的磁性、光学与半导体属性,是自旋电子学、磁光功能薄膜与量子材料研究的核心材料。使用高纯、高致密度的 EuN 靶材可显著提升膜层性能,是科研机构与先进器件开发的重要选择。
如需了解更多技术资料或获取价格,请联系:
📩 sales@keyuematerials.com
您可以向我们发送询盘,以获取更多信息和最新价格。

苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属(3N~6N)、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案,服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
Copyright © 苏州科跃材料有限公司 苏ICP备2025199279号-1