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碲化铜(CuTe)是一种具有优良电学、热学和光学特性的金属碲化物材料,兼具铜(Cu)的高导电性与碲(Te)的强电子关联特性。CuTe 具有适中的带隙、良好的载流子迁移率和高温稳定性,在薄膜热电材料、光电器件、功能薄膜以及先进材料研究中应用广泛。
碲化铜靶材(CuTe Sputtering Target)通过磁控溅射可沉积成分均匀、界面平整、致密度高的 CuTe 薄膜,用于半导体、热电、能量转换以及功能光电领域的薄膜制备。
CuTe 靶材通常采用以下制造路线:
Cu 与 Te 高纯原料直接合成(Direct Reaction Synthesis)
固相合成与退火(Solid-State Reaction)
真空热压烧结(Vacuum Hot Pressing, HP)
CIP 等静压成型 + 高温致密化工艺
典型属性:
纯度:99.9% – 99.999%(3N–5N)
化学计量比:Cu:Te = 1:1(可定制偏 Cu 或偏 Te 配比)
外观:深灰色金属陶瓷外观
致密度:≥96–98% 理论密度
尺寸:直径 25–300 mm,可定制矩形靶
厚度:3–6 mm,支持更厚工艺
背板:Cu / Ti / Mo / In bonding(可选)
材料特点:
高纯度、低氧含量材料,适合高端薄膜研究
成分均匀性佳,溅射稳定无异常颗粒喷射
良好的磁控溅射兼容性(RF / Pulsed DC)
电导率较高,适合作为复合薄膜结构中的导电层
CuTe 具有典型的金属碲化物热电特性,可用于:
中温热电发电薄膜
温差能量采集结构
多层热电复合结构(如 CuTe / Bi₂Te₃)
电热转换器件
适合 200–450 °C 热电工作区间。
CuTe 的电子结构适用于:
光吸收增强薄膜
界面调控层
光电转换器件结构层
薄膜红外功能结构
CuTe 可作为:
导电调控层
电学特性可调的中间层
异质结结构材料
薄膜电极或接触层
与 CuInSe₂、Te 基材料等易形成优良界面。
CuTe 常被用于:
Cu–Te 相稳定性研究
热电、光电性能调控
偏 Cu / 偏 Te 成分对比实验
纳米结构 CuTe 薄膜研究
| 参数 | 范围 / 典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 3N–5N | 高纯度确保薄膜缺陷低 |
| 成分 | CuTe(可偏 Cu / Te) | 适合不同薄膜需求 |
| 致密度 | ≥96–98% TD | 高致密减少溅射颗粒 |
| 尺寸 | Ø25–Ø300 mm | 可适配多种设备 |
| 厚度 | 3–6 mm | 决定靶寿命与沉积均匀性 |
| 背板结合 | Cu / Ti / Mo / In | 提高散热与结构稳定性 |
| 溅射方式 | RF、Pulsed DC | 化合物靶材推荐 RF |
| 工艺 | HP / CIP / Sintering | 提升微观结构一致性 |
| 材料 | 特点 | 应用 |
|---|---|---|
| CuTe | 电导好、热电适中、成膜稳定 | 热电、光电、功能薄膜 |
| Bi₂Te₃ | 优秀热电材料 | 热电发电/制冷 |
| Sb₂Te₃ | 电导率高、界面兼容好 | 热电、光电器件 |
| Cu₂Te | 更高金属性 | 导电层、结构层 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| CuTe 靶材适合哪些溅射方式? | RF 和脉冲 DC 均适用。 |
| 是否可以提供不同化学计量? | 可以定制 Cu-rich 或 Te-rich。 |
| CuTe 是否可用作热电薄膜? | 是,中温热电材料。 |
| 是否支持大尺寸靶材? | 最大可提供至 12 英寸。 |
| 可否用于 PLD? | 可提供 PLD/MBE 专用 CuTe 靶材。 |
| CuTe 是否易氧化? | 稳定性好,但仍建议真空密封。 |
真空密封、防氧化处理
泡棉 + 防静电袋双重保护
加固外箱、出口级包装
随货附 ICP、XRD、密度与外观检测报告
碲化铜靶材(CuTe)凭借其良好的电学、热电及光电特性,是热电薄膜、光电材料、导电界面材料与先进功能薄膜研究的重要材料。采用高致密、高纯度 CuTe 靶材可以获得更均匀、更低缺陷的薄膜,是科研与产业应用的理想选择。
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