钼铌靶材（MoNb）

产品简介（Introduction）

钼铌靶材（MoNb）由钼（Mo）与铌（Nb）两种难熔金属组成，兼具高熔点、高强度、优异的耐腐蚀性与良好的热稳定性，是先进薄膜沉积、高温器件制造、功能涂层和微电子结构材料的重要合金靶材。

Mo–Nb 合金具有面心立方或体心立方固溶结构，膜层应力较低，在高温环境中仍保持优良的机械与化学稳定性，因此常用于高温防护层、阻挡层、电极层以及真空与半导体工艺环境下的耐腐蚀薄膜。

产品详情（Detailed Description）

MoNb 靶材采用高纯钼、铌原料，经真空熔炼、粉末冶金（PM）、CIP 冷等静压、HIP 热等静压、固相扩散合金化与精密机械加工制造而成。

材料优势：

• 高熔点（Nb：2477°C，Mo：2623°C）保证高温稳定性

• 优秀的结构均匀性，无偏析

• 高致密度（≥97%），薄膜颗粒率低

• 良好的化学稳定性及抗酸碱腐蚀能力

• 可在高功率溅射环境下稳定工作

• 薄膜应力低，附着力强

常规可定制参数：

• 纯度：99.5%–99.99%

• 成分比：Mo80Nb20、Mo70Nb30、Mo60Nb40（可定制）

• 直径：Φ25–Φ300 mm

• 厚度：3–6 mm

• 靶材结构：圆形靶、矩形靶

• 背板选择：铜背板（Cu）、钛背板（Ti）、铟焊（In Bonding）

应用领域（Applications）

半导体与微电子制造

• 高温阻挡层

• 金属互连结构

• 电极材料

• 微电子保护涂层

真空镀膜与功能薄膜

• 高温耐腐蚀涂层

• 耐磨功能膜

• 光学结构涂层基底层

高温工程材料

• 防护层、结构补强膜

• 适用于真空、等离子体、高温腐蚀环境

科学研究与材料开发

• Mo–Nb 固溶体结构调控

• 高温合金薄膜材料研究

• 结构–性能关联研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

1. MoNb 靶材适合什么溅射方式？
DC、RF、磁控溅射均适用。

2. 是否支持成分定制？
可以，如 Mo60Nb40、Mo85Nb15 等均可生产。

3. 是否可用于高温薄膜沉积？
非常适合，Mo 与 Nb 均为难熔金属。

4. 是否支持 8–12 英寸靶材？
完全支持，且可生产矩形靶。

5. 是否提供检测报告？
可提供 ICP 成分分析、密度测量、外观检测等报告。

6. 薄膜容易产生裂纹吗？
MoNb 薄膜应力低，不易开裂，附着力较强。

包装与交付（Packaging）

• 双层真空密封

• 防震泡棉保护

• 出口级纸箱或木箱包装

• 单件附批次编号与检测标签

结论（Conclusion）

钼铌靶材（MoNb）凭借优异的高温性能、耐腐蚀性与稳定性，是先进微电子、真空镀膜、高温工程薄膜的理想选择。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密、多规格可定制的 MoNb 靶材，适用于科研与产业生产。

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