描述

钛铝硅靶材（TiAlSi）

产品简介（Introduction）

钛铝硅靶材（TiAlSi）是由钛（Ti）、铝（Al）和硅（Si）三种元素组成的高性能金属间化合物靶材，具有优异的耐腐蚀性、热稳定性、高硬度及良好的成膜均匀性。在 PVD / 溅射技术中，TiAlSi 是高端硬质涂层、耐磨保护膜、阻挡层以及电子器件功能薄膜的重要靶材。

该材料常用于制备 TiAlSiN、TiAlSiON 等高性能氮化物薄膜，具有高硬度（>30 GPa）、优异耐高温氧化性能（>900°C）、低摩擦及出色的抗磨损性能，广泛应用于半导体、切削工具、模具、光学镀膜及高端机械工程领域。

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产品详情（Detailed Description）

TiAlSi 靶材采用高纯原材料，经真空熔炼、粉末冶金（PM）、CIP、HIP、均质扩散和精密机械加工制备：

特点：

• 高致密度（≥98%）

• 微结构均匀，无偏析

• 氧含量低，薄膜缺陷率低

• 高温下保持强度与化学稳定性

• 溅射过程中稳定、不易产生颗粒

• 可定制不同 Ti/Al/Si 比例，满足膜层性能调控需求

常见成分比例：

• Ti70Al25Si5

• Ti60Al35Si5

• Ti50Al45Si5

• 可按需求配比 Ti-Al-Si 三元比例

可供规格：

• 纯度：99.5%–99.99%

• 直径：Φ25–Φ300 mm

• 厚度：3–6 mm（可定制更薄）

• 形状：圆靶、矩形靶

• 背板选择：Cu、Ti、In 焊接

• 表面粗糙度（Ra）< 0.8 μm（可提供极低粗糙度版本）

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应用领域（Applications）

1. 高硬度氮化物薄膜（TiAlSiN 系列）

TiAlSi 是制备高性能 TiAlSiN/TiAlSiON 的核心靶材，具有：

• 超高硬度（>3000 HV）

• 强耐磨性

• 优异耐高温氧化性（900~1000°C）

• 适合高速切削、钻削等高负载工况

应用：

• 刀具涂层（铣刀、钻头、车刀）

• 冲压模具

• 高速钢（HSS）工具

• 硬质合金工具（Carbide Tools）

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2. 电子与半导体薄膜

• 导电层 / 耐腐蚀层

• 微纳结构保护膜

• 功能材料过渡层

• 阻挡层（Diffusion Barrier）

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3. 光学与装饰性涂层

• 反射膜

• 耐磨装饰性涂层（如深灰金属色）

• 建筑玻璃硬质膜层

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4. 高温机械应用

• 热稳定保护层

• 摩擦、耐磨损结构膜

• 涡轮、发动机零件表面薄膜

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技术参数（Technical Parameters）

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相关材料对比（Comparison with Related Materials）

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常见问题（FAQ）

1. TiAlSi 靶材适合哪些溅射方式？
适用于 DC、RF 与磁控溅射。

2. 常见膜层是什么颜色？
TiAlSiN 通常呈深灰、黑灰至深金属色。

3. 成分可以定制吗？
可以，特别是 Si 含量对膜层硬度与耐温性影响大。

4. 是否适合高功率溅射？
是的，高致密度与热稳定性使其适合长时间高功率沉积。

5. 是否可提供 8–12 英寸大靶材？
支持所有尺寸，包括矩形靶。

6. 是否有检测报告？
可提供 ICP 成分分析、密度、表面粗糙度等报告。

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包装与交付（Packaging）

• 真空封装防氧化

• 内层防震泡棉固定

• 外层纸箱或木箱出口包装

• 每片靶材具有独立追溯编号

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结论（Conclusion）

钛铝硅靶材（TiAlSi）以其卓越的耐磨、耐高温和高硬度性能，是高端工具涂层、半导体薄膜、光学与结构涂层的理想材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密度、稳定可靠的 TiAlSi 靶材，满足科研与工业量产需求。

如需报价或更多技术信息，请联系：
sales@keyuematerials.com