硅化铂靶材（PtSi）

产品简介（Introduction）

硅化铂（PtSi）靶材是一种贵金属硅化物靶材，以其优异的电学性能、化学稳定性及与硅基材料良好的界面兼容性，被广泛应用于红外探测器、光电器件、肖特基二极管、半导体金属化结构等高端技术领域。
其贵金属性质带来高稳定性，而硅化物结构则提供优良的界面特性，使 PtSi 成为精准薄膜沉积中不可替代的功能材料。

核心优势包括：

• 与 Si 基底高度匹配，形成低界面缺陷薄膜；

• 具备优异的红外响应能力，是 PtSi 红外探测器（IR FPA） 的核心材料；

• 热稳定性高，不易氧化；

• 导电性好，适合作为高性能电极与接触层。

产品详情（Detailed Description）

我司提供 99.9%（3N）– 99.99%（4N）高纯度 PtSi 溅射靶材，采用真空熔炼与热压烧结技术，材料致密度高、晶粒细腻且均匀，适用于精密光电与半导体镀膜工艺。

● 可提供的典型规格

• 成分比例： PtSi、Pt₂Si、Pt₃Si（可定制相组成）

• 尺寸范围： Ø25–Ø300 mm；矩形靶可定制

• 厚度： 3–6 mm

• 密度： ≥98% 理论密度（TD）

• 工艺路线： 真空熔炼 + 热压 / HIP 加致密

• 背板结合： Cu / Ti / In bonding（提升散热并降低内应力）

这些技术保证靶材：

• 溅射稳定、无异常放电；

• 输出致密均匀薄膜；

• 在大功率溅射中保持机械完整性；

• 显著减少颗粒（particles）产生。

应用领域（Applications）

● 红外探测器（Infrared Detectors）

PtSi 是制备 红外焦平面阵列（IR FPA） 中最重要的材料之一：

• 响应波段稳定

• 噪声低

• 与硅工艺兼容性强
  常用于军事热成像、夜视系统、工业红外探测与科学研究。

● 光电与半导体器件

• 肖特基势垒二极管

• 红外光电探测器

• 高性能接触层

• CMOS 金属化结构

● 功能涂层

• 耐腐蚀贵金属膜

• 稳定电极膜

• 高可靠性连接层

● 科研应用

• 多层金属硅化物结构研究

• 光电薄膜材料开发

• 贵金属复合膜制备

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封防污染包装

• 防静电材料封装

• 出口级防震木箱

• 附靶材检测报告与唯一追溯编码

确保产品在运输与储存期间保持高洁净度和完整性。

结论（Conclusion）

硅化铂靶材（PtSi）凭借其贵金属稳定性、与硅基工艺的完美兼容性以及优异的红外与电学性能，是光电探测、半导体金属化及高端器件制造中不可替代的关键材料。

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