您可以向我们发送询盘,以获取更多信息和最新价格。
镍铁靶材(NiFe)是一种典型的软磁合金溅射靶材,由镍(Ni)与铁(Fe)组成,常见成分包括 Ni80Fe20(即 Permalloy 80/20)及 Ni81Fe19 等。NiFe 以其优异的软磁性能、低矫顽力、高磁导率、低磁时滞及良好的成膜均匀性,成为磁性薄膜、磁记录、传感器、MRAM、微电子器件以及高频磁性器件中的核心材料。
由于 NiFe 的磁性稳定、损耗低,且在溅射过程中颗粒率小、附着力好,因此广泛用于科研与工业级磁性薄膜制备。
镍铁靶材采用高纯金属 Ni/Fe 原料,通过真空熔炼、CIP 冷等静压、HIP 热等静压与高精度机械加工制备。材料组织均匀、致密度高、溅射过程中呈现稳定的软磁响应,适合多种磁性薄膜应用。
软磁性能优异:低矫顽力、高磁导率、低损耗
成膜性能稳定:薄膜均匀性好、磁性能重复稳定
应力低、附着性强
磁滞损耗小,易磁化与去磁
适用于 DC 与 RF 磁控溅射
Ni80Fe20(Permalloy 80)
Ni81Fe19
Ni77Fe23
可根据磁导率、矫顽力、频率需求定制比例
直径:25–400 mm
厚度:3–10 mm
形状:圆靶、矩形靶
背板结合:Cu / Ti / In-Bonding
表面粗糙度:Ra < 0.8 µm(支持镜面抛光)
磁头薄膜
磁阻元件(AMR / GMR / TMR)
MRAM 自旋电子薄膜
磁域控制层
NiFe 的软磁性能使其成为磁记录领域的标准材料。
霍尔传感器
电子罗盘
高灵敏磁场检测器
低频磁检测膜层
高频磁性结构膜
电路噪声抑制膜
电磁屏蔽层
高频铁磁薄膜
磁通导向膜
自旋电子结构材料
低损耗磁屏蔽膜
纳米磁性多层膜
磁性薄膜机理研究
新型软磁材料探索
高频磁响应模型设计
多层自旋结构开发
| 参数 | 范围 / 典型值 | 技术说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | ≥99.9% | 杂质低,磁性稳定 |
| Ni/Fe 比例 | 可定制 | 决定磁导率与矫顽力 |
| 致密度 | ≥98% | 提升薄膜均匀性 |
| 直径 | 25–400 mm | 适配多种腔体 |
| 厚度 | 3–10 mm | 支持薄靶与厚靶 |
| 背板 | Cu / Ti / In | 强化散热与强度 |
| 表面粗糙度 | Ra < 0.8 µm | 可提供镜面抛光 |
| 材料 | 特点 | 应用 |
|---|---|---|
| NiFe | 软磁性能最佳、低矫顽力 | MRAM、GMR/TMR、磁头 |
| Ni | 比较硬磁,导电性好 | MTJ、射频器件 |
| CoFeB | 磁性强、适合自旋电子器件 | MTJ、磁性隧穿结构 |
1. NiFe 的成分是否可根据磁性需求定制?
可以,常根据磁导率、矫顽力、频率来调整 Ni/Fe 比例。
2. 是否能做大尺寸靶材?
可提供 4″、6″、8″、12″ 圆靶以及大面积矩形靶。
3. 适合 DC 还是 RF 溅射?
两者皆可,磁控溅射表现稳定。
4. NiFe 薄膜的磁性均匀吗?
致密材料可实现良好的磁性均匀性与重复性。
5. 能否提供磁性测试数据?
可提供矫顽力、磁导率、MH 回线、表面粗糙度等报告。
真空密封防氧化
防静电袋
防震泡棉
出口级纸箱/木箱包装
每个靶材附唯一批次号与追踪标签
镍铁靶材(NiFe)具有低损耗、高磁导率与优异软磁性能,是磁性薄膜、传感器、自旋电子器件和存储器研发中不可或缺的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、成分可调、尺寸可定制的 NiFe 靶材,适用于科研与工业规模生产。
您可以向我们发送询盘,以获取更多信息和最新价格。

苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属(3N~6N)、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案,服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
Copyright © 苏州科跃材料有限公司 苏ICP备2025199279号-1