金锗靶材(AuGe)

金锗靶材(AuGe)

产品简介(Introduction)

金锗靶材(AuGe)由金(Au)与锗(Ge)组成,是半导体与光电行业中应用最广泛的贵金属合金靶材之一。Au 的高导电性、化学惰性与抗腐蚀性,使薄膜稳定可靠;Ge 的加入进一步改善金属在半导体(特别是 GaAs)基底上的润湿性与扩散能力,使 AuGe 薄膜成为高性能欧姆接触(Ohmic Contact)的核心材料。

由于其电学与结构性能稳定、膜层均匀性好、可实现可控扩散行为,AuGe 靶材广泛应用于激光器、光电探测器、微波器件、GaAs / InP 器件等先进半导体结构。


产品详情(Detailed Description)

材料优势

  • 优异的电导率
    Au 保证极低电阻率,适合作为高端电极。

  • 卓越的欧姆接触性能(特别是 GaAs)
    是 III-V 化合物半导体标准金属化方案。

  • 可控扩散行为
    Ge 的加入调控金属向 GaAs 的扩散形成稳定合金界面。

  • 成膜均匀、低颗粒
    适合高端光电与微电子薄膜工艺。

  • 抗氧化与抗腐蚀性能强
    Au 提供极佳化学稳定性,在高湿与高温环境仍保持性能。

典型成分(可定制)

  • Au88Ge12(最常用)

  • Au82Ge18

  • Au90Ge10

  • 特殊科研配比可定制

此类成分比常用于 GaAs 器件欧姆接触与光电结构层。

可供规格

  • 直径:25–200 mm(可定制更大尺寸)

  • 厚度:2–6 mm

  • 纯度:Au、Ge ≥ 99.99%(4N)

  • 形状:圆靶 / 方靶 / 大面积靶材

  • 背板:Cu / Ti / Mo / In bonding 可选

  • 表面粗糙度:Ra < 0.8 µm(可镜面抛光)


应用领域(Applications)

1. III-V 半导体欧姆接触

AuGe 是 GaAs 欧姆接触标准材料,用于:

  • 激光二极管(LD)

  • 光电探测器(PD)

  • HEMT、HBT、FET

  • 微波与毫米波器件

其扩散特性使金属与 GaAs 界面形成低接触电阻结构。


2. 光电器件(Optoelectronic Devices)

  • 激光器金属化层

  • 光敏探测器电极

  • 红外探测芯片电极

  • 多层光学金属薄膜


3. 微电子与集成电路(IC & Microelectronics)

  • 粘附层 / 电极层

  • 高温稳定电极

  • 化合物半导体互连结构

  • 封装金属化层


4. 其他应用

  • 硅基光电子器件

  • MEMS 金属层

  • 功能金属薄膜研究

  • 多层金属结构中的扩散调控膜


技术参数(Technical Parameters)

参数 范围 / 典型值 说明
纯度 ≥99.99% 提升薄膜电学稳定性
Au/Ge 比例 定制 决定欧姆性能与扩散深度
致密度 ≥98% 溅射稳定性优秀
直径 25–200 mm 主流腔体均适配
厚度 2–6 mm 支持薄靶与厚靶
背板 Cu / Ti / Mo / In 加强散热、提升寿命

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 特点 应用场景
AuGe 欧姆接触优异、扩散可控 GaAs 器件、激光器
AuZn 硬度高、耐腐蚀 光电、封装金属化层
AuSn 高可靠焊料薄膜 光电封装、Die Attach
AuPd 附着力强、稳定性高 微电子结构膜

常见问题(FAQ)

1. AuGe 靶材是否主要用于 GaAs 欧姆接触?
是,AuGe 是 GaAs 器件最经典、最稳定的欧姆金属体系。

2. 能否制作大尺寸溅射靶材?
可以,可提供 4″、6″、8″+ 等规格。

3. Au/Ge 比例能否定制?
完全可根据欧姆接触深度、电阻需求设计。

4. 是否兼容 DC 与 RF?
均支持,磁控溅射表现稳定。

5. 是否可提供 XRF / ICP 认证?
可提供完整成分分析报告。


包装与交付(Packaging)

  • 真空密封(防氧化)

  • 防静电与防震包装

  • 出口级木箱或纸箱

  • 每件靶材均附唯一批次号


结论(Conclusion)

金锗靶材(AuGe)是一种兼具优异欧姆性能、成膜均匀性与扩散可控性的贵金属合金靶材,是 GaAs 光电与半导体器件中不可替代的关键材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、可定制比例的 AuGe 靶材,满足科研与大规模量产需求。