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金锗靶材(AuGe)由金(Au)与锗(Ge)组成,是半导体与光电行业中应用最广泛的贵金属合金靶材之一。Au 的高导电性、化学惰性与抗腐蚀性,使薄膜稳定可靠;Ge 的加入进一步改善金属在半导体(特别是 GaAs)基底上的润湿性与扩散能力,使 AuGe 薄膜成为高性能欧姆接触(Ohmic Contact)的核心材料。
由于其电学与结构性能稳定、膜层均匀性好、可实现可控扩散行为,AuGe 靶材广泛应用于激光器、光电探测器、微波器件、GaAs / InP 器件等先进半导体结构。
优异的电导率
Au 保证极低电阻率,适合作为高端电极。
卓越的欧姆接触性能(特别是 GaAs)
是 III-V 化合物半导体标准金属化方案。
可控扩散行为
Ge 的加入调控金属向 GaAs 的扩散形成稳定合金界面。
成膜均匀、低颗粒
适合高端光电与微电子薄膜工艺。
抗氧化与抗腐蚀性能强
Au 提供极佳化学稳定性,在高湿与高温环境仍保持性能。
Au88Ge12(最常用)
Au82Ge18
Au90Ge10
特殊科研配比可定制
此类成分比常用于 GaAs 器件欧姆接触与光电结构层。
直径:25–200 mm(可定制更大尺寸)
厚度:2–6 mm
纯度:Au、Ge ≥ 99.99%(4N)
形状:圆靶 / 方靶 / 大面积靶材
背板:Cu / Ti / Mo / In bonding 可选
表面粗糙度:Ra < 0.8 µm(可镜面抛光)
AuGe 是 GaAs 欧姆接触标准材料,用于:
激光二极管(LD)
光电探测器(PD)
HEMT、HBT、FET
微波与毫米波器件
其扩散特性使金属与 GaAs 界面形成低接触电阻结构。
激光器金属化层
光敏探测器电极
红外探测芯片电极
多层光学金属薄膜
粘附层 / 电极层
高温稳定电极
化合物半导体互连结构
封装金属化层
硅基光电子器件
MEMS 金属层
功能金属薄膜研究
多层金属结构中的扩散调控膜
| 参数 | 范围 / 典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | ≥99.99% | 提升薄膜电学稳定性 |
| Au/Ge 比例 | 定制 | 决定欧姆性能与扩散深度 |
| 致密度 | ≥98% | 溅射稳定性优秀 |
| 直径 | 25–200 mm | 主流腔体均适配 |
| 厚度 | 2–6 mm | 支持薄靶与厚靶 |
| 背板 | Cu / Ti / Mo / In | 加强散热、提升寿命 |
| 材料 | 特点 | 应用场景 |
|---|---|---|
| AuGe | 欧姆接触优异、扩散可控 | GaAs 器件、激光器 |
| AuZn | 硬度高、耐腐蚀 | 光电、封装金属化层 |
| AuSn | 高可靠焊料薄膜 | 光电封装、Die Attach |
| AuPd | 附着力强、稳定性高 | 微电子结构膜 |
1. AuGe 靶材是否主要用于 GaAs 欧姆接触?
是,AuGe 是 GaAs 器件最经典、最稳定的欧姆金属体系。
2. 能否制作大尺寸溅射靶材?
可以,可提供 4″、6″、8″+ 等规格。
3. Au/Ge 比例能否定制?
完全可根据欧姆接触深度、电阻需求设计。
4. 是否兼容 DC 与 RF?
均支持,磁控溅射表现稳定。
5. 是否可提供 XRF / ICP 认证?
可提供完整成分分析报告。
真空密封(防氧化)
防静电与防震包装
出口级木箱或纸箱
每件靶材均附唯一批次号
金锗靶材(AuGe)是一种兼具优异欧姆性能、成膜均匀性与扩散可控性的贵金属合金靶材,是 GaAs 光电与半导体器件中不可替代的关键材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、可定制比例的 AuGe 靶材,满足科研与大规模量产需求。
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