锶铌靶材(SrNb)

锶铌靶材(SrNb)

产品简介(Introduction)

锶铌靶材(SrNb)由锶(Sr)与铌(Nb)构成,是一种兼具稳定结构特性、优异电学调控能力和良好成膜性能的功能性金属间化合物靶材。由于 Sr 具有强离子性、可形成高电阻或介电性结构,而 Nb 提供金属导电性与稳定晶体结构,因此 SrNb 系薄膜兼具可调电阻率、薄膜稳定性及优良附着力。

SrNb 薄膜在氧化物电子学、新型阻变器件、铁电材料研究、多层介电结构、过渡金属氧化物调控等领域中逐渐成为重要材料,尤其受到薄膜研究机构与实验室的关注。


产品详情(Detailed Description)

材料特性

  • 电学性能可调
    Sr 的引入可提升薄膜电阻率,而 Nb 提供导电途径,使整个体系表现出可控的金属–绝缘状态。

  • 薄膜稳定性好、结构均匀
    热等静压(HIP)/ 冷等静压(CIP)工艺提高致密度,降低颗粒产生。

  • 与氧类薄膜兼容性强
    可与 SrTiO₃、Nb₂O₅、SrRuO₃ 等材料组合,制备多层结构。

  • 低颗粒溅射表现
    适用于高纯薄膜沉积要求的实验环境。

  • 适配 RF / DC / 磁控溅射设备

典型配比(可定制)

  • Sr50Nb50

  • Sr40Nb60

  • Sr60Nb40

成分可根据电学性能、结构需求或科研方向定制。

可供规格(Specifications)

  • 直径:25–200 mm

  • 厚度:2–6 mm

  • 纯度:≥ 99.9% – 99.99%

  • 形状:圆形靶 / 方形靶

  • 背板可选:Cu / Ti / Mo / In bonding

  • 表面粗糙度:Ra < 0.8 µm(支持精抛)


应用领域(Applications)

1. 氧化物电子学(Oxide Electronics)

SrNb 用于调节氧化物多层薄膜的导电性、介电行为与界面特性,常见应用包括:

  • 氧化物导电层

  • 介电调控层

  • 多层异质结构调控膜


2. 阻变存储器(ReRAM / Switching Devices)

Sr 与 Nb 的组合可形成可控缺陷结构,用于:

  • 阻变薄膜

  • 开关特性调控薄膜

  • 高电阻/低电阻态控制研究


3. 过渡金属氧化物膜制备

与 SrTiO₃、Nb₂O₅、SrVO₃ 等材料相容,可用于:

  • 外延薄膜

  • 功能性氧化物叠层

  • 薄膜晶体工程实验


4. 光电与介电材料研究

适用于科研用途的:

  • 介电优化结构

  • 光学调节层

  • 金属–氧化物界面研究


技术参数(Technical Parameters)

参数 范围 / 典型值 技术说明
纯度 99.9%–99.99% 薄膜缺陷更少,稳定性更高
成分比例 可定制 影响薄膜导电性与结构性
致密度 ≥ 97%–98% 减少颗粒,提高成膜致密性
尺寸 25–200 mm 支持大多数溅射腔体
厚度 2–6 mm 常规薄膜沉积标准厚度
背板 Cu / Ti / Mo / In 增强散热与靶材寿命
粗糙度 Ra < 0.8 µm 膜层更均匀

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 特点 应用
SrNb 电学可调、与氧化物兼容性好 氧化物电子学、阻变器件
SrTiO₃ 高介电、可外延 外延基底、界面层
Nb₂O₅ 电阻可控、化学稳定性强 电介质、阻变材料
SrRuO₃ 稳定金属氧化物电极 外延薄膜电极层

常见问题(FAQ)

  1. SrNb 薄膜是否容易氧化?
    在受控气氛下沉积稳定,适合氧分压可控的薄膜工艺。

  2. 适用于 RF 还是 DC?
    两者均可,根据靶材电阻率可选择 RF 磁控溅射效果更佳。

  3. 是否支持成分定制?
    可根据研究方向调整 Sr/Nb 比例。

  4. 能做大面积靶材吗?
    可提供到 8″ 或更高尺寸。

  5. 能否用于外延薄膜沉积?
    根据设备与工艺要求,适合外延生长研究。


包装与交付(Packaging)

  • 真空密封(防潮、防氧化)

  • 防静电袋保护

  • 防震泡棉固定

  • 出口级木箱/纸箱

  • 每件均附唯一批次编号与检测报告(可选)


结论(Conclusion)

锶铌靶材(SrNb)因其结构可调性、电学性能灵活性与对氧化物体系的高兼容性,成为氧化物电子学与新型阻变器件的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、可定制配比的 SrNb 溅射靶材,满足实验室研发与产业化需求。