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氧化钐铈靶材(SmCeO)是一种稀土复合氧化物靶材,由钐(Sm)与铈(Ce)形成的固溶氧化物结构组成。Sm–Ce–O 体系具有优异的化学稳定性、可调控氧空位、大离子迁移率以及良好的光、电、催化特性,在薄膜科学研究领域具有重要地位。
SmCeO 靶材主要用于磁控溅射制备功能氧化物薄膜,常见于光电材料、界面工程、催化薄膜、氧化物电子学及多层结构的基础研究。
苏州科跃材料科技有限公司生产的 SmCeO 溅射靶材采用高纯粉体,经冷等静压(CIP)成型、高温固相烧结与精密研磨制备而成,具有致密度高、表面均匀、结构稳定等特点,适用于科研级与工程级薄膜制备。
典型规格:
纯度: 99.9% – 99.99%
尺寸: Ø25–Ø300 mm,可定制矩形、方形、阶梯靶、分割靶
厚度: 3–6 mm(支持定制)
制造工艺: CIP 成型 + 高温烧结 + 精磨
背板结合: 铜(Cu)、钛(Ti)、铟焊(In-Bonding)均可提供
性能亮点:
高致密度,有效减少颗粒生成
成分均匀,提升薄膜电学与光学性能稳定性
可根据研究需求定制 Sm:Ce 比例
优异的热稳定性与机械完整性
SmCeO 靶材在多个功能薄膜领域中具有重要作用:
氧化物电子材料(Oxide Electronics)
介电薄膜、绝缘层、界面调控层
光电功能薄膜(Optoelectronic Thin Films)
调制层、吸收层、多层结构材料
催化与储氧薄膜(Catalytic / Oxygen Storage Films)
用于 CeO₂–Sm₂O₃ 系列催化材料研究
固体氧化物离子导体研究(Ion Conducting Films)
氧离子传导材料、气敏薄膜
外延与界面工程(Interface Engineering)
异质结薄膜、多层功能膜结构
科研与高等院校实验
PVD、RF/DC 磁控溅射
高通量材料筛选
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 提升薄膜纯净度与电学/光学稳定性 |
| 密度 | ≥ 90% 理论密度 | 减少溅射颗粒,提高膜层致密度 |
| 尺寸 | Ø25–300 mm | 兼容多数科研级与量产设备 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响沉积速率与靶材寿命 |
| 背板 | Cu / Ti / Indium Bonding | 提升散热能力与平整度稳定性 |
| 工艺 | CIP + 高温烧结 + 精磨 | 保证优良机械性能与一致性 |
| 材料 | 优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| SmCeO | 氧空位可调、结构稳定 | 光电薄膜、催化薄膜、界面材料 |
| Sm₂O₃ | 高折射率、稳定性好 | 光学镀膜、陶瓷材料 |
| CeO₂ | 储氧能力强、催化性能优异 | 催化薄膜、光学薄膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| SmCeO 适用于哪些溅射方式? | 兼容 RF、DC、脉冲 DC 等磁控溅射系统。 |
| SmCeO 薄膜具备哪些特点? | 氧空位可调、界面兼容性好、光电性能可控。 |
| 是否支持定制化 Sm:Ce 比例? | 支持,根据科研需求精确配比。 |
| 靶材是否容易出现掉渣? | 采用高致密烧结工艺,可显著降低颗粒产生。 |
| 是否推荐使用背板? | 大尺寸靶材建议使用 Cu / Ti 背板提升散热与平整度。 |
| 可否提供材料分析报告? | 可提供 XRD、密度、粒度、SEM 等数据。 |
| 可否用于外延或多层结构研究? | SmCeO 具备良好界面兼容性,适合异质结薄膜制备。 |
| 靶材是否吸湿? | 储存于干燥环境下稳定,建议密封保存。 |
| 是否适用于光学镀膜? | 可用作调制层或氧化物功能层。 |
| 是否支持矩形靶、阶梯靶? | 全部支持定制。 |
所有 SmCeO 靶材均经过严格的纯度、密度、结构与尺寸检测,并贴附唯一追踪编码。
包装采用真空密封、防震泡沫与出口级木箱,确保运输过程安全、洁净、无损。
氧化钐铈靶材(SmCeO)作为一种高性能稀土复合氧化物靶材,在光电材料、催化薄膜、功能氧化物以及外延研究中具有广泛应用。凭借其高纯度、高致密度与可定制化特点,是科研机构及先进制造企业的优选材料。
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属(3N~6N)、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案,服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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