您可以向我们发送询盘，以获取更多信息和最新价格。
氧化钕铜靶材（NdCuO）是一种稀土—过渡金属复合氧化物靶材，由氧化钕（Nd₂O₃）与氧化铜（CuO）形成稳定的复合结构。作为功能氧化物薄膜的重要材料，NdCuO 在电学、光学及磁学特性方面具备可调控能力，常用于高温超导体系研究、氧化物电子学、界面工程及光电功能薄膜制备。
NdCuO 在磁控溅射中具有良好的成膜稳定性，可形成均匀、致密且结构可控的薄膜，被科研机构和先进材料企业广泛采用。
苏州科跃材料科技有限公司生产的 NdCuO 溅射靶材采用高纯粉体，经冷等静压（CIP）成型、高温烧结和精密研磨工艺制备，确保靶材具有优良的密度、均匀性和机械稳定性。
规格说明：
纯度等级： 99.9% – 99.99%
形状： 圆形（支持 Ø25–Ø300 mm 定制）
厚度： 3–6 mm（可按需定制）
制造工艺： CIP 成型 + 高温固相烧结 + 精密研磨
背板选择： Cu / Ti / In 焊接均可提供
优势特点：
结构致密，降低颗粒生成
成分均匀，可提升薄膜性能稳定性
良好的热稳定性，适用于多种薄膜沉积工艺
可定制 Nd:Cu 化学计量比
NdCuO 靶材广泛应用于功能薄膜材料研究，包括：
高温超导与铜氧化物体系研究
用于制备母相薄膜或辅助层
氧化物电子学（Oxide Electronics）
电阻调控薄膜、过渡层
光电功能材料（Optoelectronics）
吸收层、界面层、多层光学结构
催化与储氧薄膜
Nd–Cu–O 体系具备可调氧空位特性
外延与多层结构工程
适合作为界面调控材料
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 影响薄膜缺陷与稳定性 |
| 密度 | ≥ 90% 理论密度 | 高密度减少颗粒与烧蚀不均 |
| 尺寸 | Ø25–300 mm | 可适配多数溅射设备 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响沉积速率与靶材寿命 |
| 背板 | Cu / Ti / Indium Bonding | 提升散热并提高使用稳定性 |
| 工艺 | CIP + 高温烧结 + 精研 | 获得高致密、低应力靶材 |
| 材料 | 特性优势 | 典型用途 |
|---|---|---|
| NdCuO | 稀土复合氧化物，具备可调电性与光学特性 | 功能薄膜、超导体系研究 |
| Nd₂O₃ | 介电性能佳、稳定性强 |
您可以向我们发送询盘，以获取更多信息和最新价格。
苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
Copyright © 苏州科跃材料有限公司 苏ICP备2025199279号-1