氧化镍钴靶材（NiCoO）

产品简介（Introduction）

氧化镍钴靶材（NiCoO）是一类由镍（Ni）与钴（Co）形成的过渡金属复合氧化物靶材，因其优异的电化学活性、磁性调控能力、导电特性与化学稳定性，广泛应用于电催化薄膜、电极材料、磁性薄膜、阻变存储器以及多层功能薄膜的研究与制备。

Ni–Co–O 体系具备可调控的电子结构和氧空位行为，使其成为新能源材料、氧化物电子学及多层功能涂层的重要薄膜源材料。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯、高致密度 NiCoO 溅射靶材，采用高纯粉体经冷等静压（CIP）成型、高温烧结与精密研磨制备，确保靶材具有优秀的均匀性、机械稳定性与可靠的溅射性能。

标准规格：

• 纯度： 99.9%（3N）– 99.99%（4N）

• 尺寸： Ø25–Ø300 mm 圆形靶，可定制矩形、阶梯靶

• 厚度： 3–6 mm，可按需求定制

• 成分比例： Ni:Co 可根据科研要求配比

• 制造工艺： CIP 成型 + 高温烧结 + 精磨

• 背板（可选）： Cu / Ti / In-Bonding（适合大尺寸散热）

• 外观： 深灰至黑色陶瓷体，高致密、均匀无明显孔洞

性能亮点：

• 高致密度，降低溅射颗粒

• 成分均匀性优异，膜层稳定性高

• 可调控电学、磁性与催化性能

• 适用于高要求的磁控溅射系统（RF / DC / Pulsed DC）

应用领域（Applications）

1. 电化学能源薄膜（Electrochemical Films）

• 电催化薄膜（OER / ORR / HER）

• 电极保护层

• 锂离子/钠离子电池薄膜结构

2. 氧化物电子学（Oxide Electronics）

• 电阻式存储器（ReRAM）

• 电导调控材料

3. 磁性与自旋电子薄膜（Magnetic & Spintronic Films）

• Ni–Co–O 系列磁性材料

• 磁电耦合薄膜

4. 光电功能薄膜（Optoelectronics）

• 多层吸收膜

• 光学调制层

5. 气体传感与氧空位材料（Gas Sensing & Oxygen Vacancy Films）

• 气敏薄膜（H₂、NO₂、O₂、VOC 等）

• 氧空位可控功能膜

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

所有 NiCoO 靶材出厂前均进行以下检测：

• 密度、纯度、成分一致性

• 尺寸与公差

• 表面粗糙度

• 显微结构

并贴附唯一追踪编号。

包装方式：

• 真空密封

• 防震泡沫保护

• 出口级木箱包装

确保运输途中无破损、无污染。

结论（Conclusion）

氧化镍钴靶材（NiCoO）凭借其可调控的电子结构、优异的电化学性能与磁性特性，在能源材料、磁性薄膜、氧化物电子学及新型存储器领域具有重要应用价值。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密、可定制的 NiCoO 靶材，为科研和量产提供可靠的材料支持。

如需更多规格、数据表或报价，请联系：
sales@keyuematerials.com