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镧铜靶材(LaCu)由镧(La)与铜(Cu)组成,是一种兼具稀土元素电子结构特性与铜的优良导电性的功能性合金靶材。La 的稀土特性可提供能带调控能力与化学活性,而 Cu 提供高导电性、稳定性与良好的金属膜结合能力,使 LaCu 在光学薄膜、电学调控薄膜、功能金属层以及新型材料研发中具有很高的应用价值。
LaCu 是科研机构、材料实验室及薄膜制程中常用的稀土金属合金靶材之一,适用于多种 PVD 薄膜沉积工艺,如 RF 磁控溅射、DC 溅射及混合溅射。
稀土电子特性突出
La 的 4f 电子结构有助于形成独特的电学与光学特性。
导电性能增强(来自 Cu)
Cu 赋予薄膜低电阻率、良好的电极属性。
薄膜附着力优良
Cu 可改善薄膜与玻璃、陶瓷、Si 基底的粘附性。
成膜均匀性好、颗粒率低
适合高质量薄膜沉积工艺。
适用多种薄膜环境
La 的活性使 LaCu 可用于氧化、金属化等不同气氛下的薄膜生长。
La70Cu30
La60Cu40
La50Cu50
也可根据电阻率、光学需求或材料体系进行成分调整。
直径:25–200 mm
厚度:2–6 mm
纯度:La、Cu ≥ 99.9%–99.99%
形状:圆靶 / 方靶 / 非标尺寸
背板:Cu / Ti / Mo / In bonding
表面粗糙度:Ra < 0.8 µm(可抛光)
LaCu 薄膜具备良好导电性,适用于:
电极层
金属化层
功能性导电薄膜
集成电子结构的金属中间层
可用于:
光学调控层
抗反射结构
光谱调节薄膜
半透明金属膜
La 提供稀土能带结构,使其常用于:
氧化物功能薄膜
薄膜能带工程
稀土掺杂结构
Cu 的优良导电性和润湿性,使 LaCu 适用于:
金属接触层
缓冲层
入射窗口金属膜
封装金属薄膜结构
适合:
稀土/金属混合体系研究
新型电子结构的探索
电阻与光学特性调控
多层膜堆叠结构开发
| 参数 | 范围 / 典型值 | 技术说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 高纯减少薄膜缺陷 |
| 成分比例 | 可定制 | 调控导电性与光学性能 |
| 致密度 | ≥97% | 保证溅射稳定性 |
| 直径 | 25–200 mm | 兼容主流靶材系统 |
| 厚度 | 2–6 mm | 常规薄膜靶材厚度 |
| 背板 | Cu / Ti / Mo / In | 提高散热与结构强度 |
| 粗糙度 | Ra < 0.8 µm | 提升膜层均匀性 |
| 材料 | 优势 | 应用领域 |
|---|---|---|
| LaCu | 导电性好,稀土调控能力强 | 光学 & 电学功能膜 |
| LaNi | 磁性与导电性兼具 | 功能电子材料 |
| LaAl | 氧化物结构稳定 | 介电薄膜、氧化物结构 |
| CuIn | 优秀润湿性与导电性 | 电极、封装功能膜 |
1. LaCu 是否容易氧化?
La 活性较高,因此靶材均采用真空密封包装,正常溅射环境下不会影响使用。
2. LaCu 对 RF 或 DC 溅射是否兼容?
兼容 RF / DC / 磁控溅射。
3. 可以定制成分比例吗?
可根据导电率、光学参数或实验需求完全定制。
4. 能否做大尺寸靶材?
可提供 4″、6″、8″+ 等大尺寸靶材。
5. 能否提供 ICP、XRF 等检测报告?
可以提供完整的材料分析数据。
真空密封
防静电袋
防震泡棉保护
出口级包装
每件靶材附唯一批次编号
镧铜靶材(LaCu)结合稀土元素的电子结构优势与铜的优良导电性能,是光学薄膜、金属化薄膜、电极层以及功能材料研究中的重要靶材。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密、成分可定制的 LaCu 靶材,满足科研与工业化薄膜制程需求。
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