氧化铕镍靶材（EuNiO）

产品简介（Introduction）

氧化铕镍靶材（EuNiO）是一类由稀土元素铕（Eu）与过渡金属镍（Ni）形成的复合氧化物靶材，属于具有强关联电子结构的功能氧化物体系。Eu–Ni–O 体系材料在磁性调控、自旋电子学（spintronics）、电阻变化存储器（ReRAM）、光电薄膜及多层界面工程中具有重要研究价值。

EuNiO 具备可调控的电学、磁学与光学特性，可用于构建复杂氧化物异质结构、磁性薄膜、电子相变材料等，是科研与先进薄膜开发常用的关键靶材。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司使用高纯前驱物，通过冷等静压（CIP）、高温固相烧结与精密研磨工艺制备 EuNiO 靶材，确保其高致密度、成分均匀性与优良机械稳定性。

产品规格：

• 纯度： 99.9% – 99.99%

• 尺寸： Ø25–Ø300 mm（圆形），可定制矩形或阶梯靶

• 厚度： 3–6 mm，可按需定制

• 化学计量比： Eu:Ni 支持科研定制

• 背板选项： Cu / Ti / 铟焊（In Bonding）

• 制造工艺： CIP成型 + 烧结致密化 + 精密研磨

• 外观： 深灰至黑色陶瓷表面，均匀细腻、结构稳定

性能优势：

• 高致密度减少溅射时颗粒产生

• 成分均匀，适合对薄膜结构要求高的科研应用

• 兼容多种 PVD / RF / DC / 脉冲溅射系统

• 稳定性高，适用于长时间溅射运行

应用领域（Applications）

1. 自旋电子学（Spintronics）

• 磁性薄膜

• 自旋过滤结构

• 界面磁性调控

2. 电阻变化存储器（ReRAM）

• 电阻开关层（resistive switching layer）

• 氧空位相关机制研究

3. 复杂氧化物异质结构（Oxide Heterostructures）

• 多层功能膜

• 叠层结构与界面层工程

4. 光电功能薄膜（Optoelectronic Thin Films）

• 调制层、吸收层

• 光学响应材料研究

5. 气敏与催化材料研究

• 氧空位驱动的敏感薄膜

• 复合过渡金属氧化物催化薄膜

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封包装

• 防震泡沫保护

• 出口级木箱

• 每片靶材附唯一可追溯编号

所有 EuNiO 靶材均经过纯度、密度、尺寸、成分均匀性与表面质量检测。

结论（Conclusion）

氧化铕镍靶材（EuNiO）凭借其独特的磁性、电学与光学可调控性，可广泛用于自旋电子学、阻变存储器、功能氧化物薄膜与多层结构研究。苏州科跃提供高纯、高致密并支持深度定制的 EuNiO 靶材，是科研与高端制造的可靠选择。

如需更多规格、技术资料或报价，请联系：
sales@keyuematerials.com