您可以向我们发送询盘，以获取更多信息和最新价格。
硼化钕靶材（NdB）是一种稀土金属与硼形成的高性能陶瓷化合物材料，具备优异的高温稳定性、低蒸气压以及良好的化学惰性。在薄膜沉积领域中，NdB 以其独特的电学与磁性特征，被广泛用于磁性功能薄膜、微电子器件、耐磨与防护涂层以及科研材料研究。
NdB 靶材在磁控溅射过程中可形成致密、均匀且成分稳定的多元薄膜，适用于需要稀土掺杂、功能化调控或特定电子结构设计的薄膜应用。
苏州科跃材料科技有限公司提供的 NdB 溅射靶材具有如下特点：
纯度：99.5%–99.9%（典型 3N）
常规尺寸：直径 25–200 mm，可完全定制
厚度：3–6 mm
制造工艺：真空烧结、热压（HP）、冷等静压（CIP）或热等静压（HIP）
密度：高致密度，接近理论密度，减少溅射颗粒
背板结合：可选铜（Cu）、钛（Ti）背板及铟焊（Indium Bonding）
性能优势：
优异的热稳定性与结构稳定性
导电性适宜，便于稳定溅射
膜层致密且低缺陷
适合构建稀土增强型功能薄膜
硼化钕溅射靶材常用于以下先进技术领域：
磁性薄膜（Magnetic Films）：用于调控磁性、电阻切换与自旋电子结构
耐磨与保护涂层：具有较高硬度与耐腐蚀性
微电子器件：电极层、功能层、阻挡层
稀土化功能薄膜材料：用于特殊光电与磁性调控实验
科研领域：多元稀土材料、磁电效应、陶瓷增强复合薄膜
| 参数 | 范围/典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | ≥99.5% – 99.9% | 纯度越高，薄膜缺陷越少 |
| 尺寸 | Φ25–200 mm | 适配主流磁控溅射平台 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射速率与功率稳定性 |
| 密度 | 接近理论密度 | 获得高致密薄膜 |
| 背板结合 | Cu / Ti / 铟焊 | 提升散热与机械稳定性 |
| 材料 | 特点 | 应用 |
|---|---|---|
| NdB（硼化钕） | 稀土特性 + 高硬度，磁性可调 | 磁性薄膜、耐磨层 |
| LaB₆（硼化镧） | 高电子发射能力 | 电子枪阴极、光电材料 |
| TiB₂（硼化钛） | 高硬度，导电性好 | 防护涂层、金属陶瓷 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| NdB 靶材适合哪类溅射技术？ | 适用于 DC、RF 磁控溅射，多种系统兼容。 |
| NdB 薄膜有什么典型特性？ | 结构致密、耐高温、硬度高，可表现特殊磁性行为。 |
| 能否定制 Nd/B 的比例？ | 可以，可根据实验需求调整化学计量比。 |
| 是否可以铟焊背板？ | 可以提供 Cu/Ti 背板与专业铟焊服务。 |
| 与 Nd₂O₃ 或 Nd 金属靶材相比的优势？ | NdB 更稳定、不易氧化，溅射过程更清洁。 |
| 是否适用于超高真空系统？ | 高纯度 NdB 极低蒸气压，非常适合 UHV 使用。 |
| 膜层粗糙度是否易控制？ | 通过低压沉积与适当功率条件可实现低粗糙度。 |
| 能否用于复合结构薄膜？ | 可与金属、氧化物共溅射形成多层膜或掺杂膜。 |
真空密封包装
防震泡沫保护
出口级硬纸箱或木箱
全流程批次追踪标签
可附密度报告、化学成分分析（ICP）、外观检测等文件
硼化钕靶材（NdB）凭借其稀土特性与稳定陶瓷结构，已成为高端功能薄膜与科研领域的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、可定制化的 NdB 靶材，为薄膜沉积工艺提供可靠材料支持。
如需报价或技术资料，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
您可以向我们发送询盘，以获取更多信息和最新价格。
苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
Copyright © 苏州科跃材料有限公司 苏ICP备2025199279号-1