描述
硼化钛靶材（TiB）
产品简介（Introduction）
硼化钛（TiB）是一类重要的金属硼化物材料，以其优异的硬度、高熔点、良好导电性、强耐磨性及化学稳定性而著称。TiB 薄膜常用于提高表面硬度、耐腐蚀性和耐高温性能，因此在硬质涂层、耐磨薄膜、导电保护层以及结构陶瓷薄膜制备中占据重要地位。
作为磁控溅射靶材，TiB 能沉积致密、附着力强的功能薄膜，适用于半导体、模具制造、切削工具、光学镀膜、航空航天和材料科学研究等领域。
产品详情（Detailed Description）
科跃材料生产的 TiB 溅射靶材采用高纯钛粉与高纯硼粉，通过真空固相反应、冷等静压（CIP）及热压烧结（HP/HIP）工艺制备，靶材具有高致密度、高纯度和优异的机械稳定性。
提供的规格范围包括：
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纯度：99.5% – 99.9%（2N5 – 3N）
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尺寸：Ø25–300 mm；厚度 3–10 mm，可按图纸定制
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密度：≥ 95% 理论密度
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制造工艺：CIP、HP/HIP、真空烧结、精密加工
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背板选择：Cu / Ti 背板；支持铟焊或扩散焊
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形状：圆靶、方靶、阶梯靶、分段靶等
靶材特点：
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高硬度与高耐磨性，适合机械强化涂层
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溅射稳定性好，薄膜均匀致密
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良好的高温稳定性与耐腐蚀能力
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结构完整性高，不易破裂或掉粉
应用领域（Applications）
TiB 薄膜在工程材料与高性能工业应用中广泛使用，包括：
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硬质涂层（Hard Coatings）
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耐磨薄膜（Wear-Resistant Films）
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工具与模具表面处理（Tooling Coatings）
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导电保护层（Conductive Barrier Layers）
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结构陶瓷薄膜（Ceramic Composite Films）
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航空航天防护涂层
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半导体与微电子薄膜结构
TiB 靶材制备的薄膜可显著提升表面硬度与耐磨性，延长部件使用寿命。
技术参数（Technical Parameters）
| 参数 | 范围 / 典型值 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.5% – 99.9% | 高纯材料可得到低污染、高质量薄膜 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配科研及工业溅射系统 |
| 厚度 | 3–10 mm | 决定溅射寿命与热稳定性 |
| 密度 | ≥ 95% 理论密度 | 有助于获得均匀致密的薄膜 |
| 背板 | Cu / Ti / In bonding | 提升散热能力与结构稳定性 |
| 制备工艺 | CIP / HP / HIP | 保证材料致密性与均匀性 |
相关材料对比（Comparison with Related Materials）
常见问题（FAQ）
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| TiB 靶材适用于哪种溅射方式？ | RF 与 DC 均可，DC 溅射常用于工业应用。 |
| 靶材是否易碎？ | TiB 为陶瓷类复合材料，较脆，建议使用 Cu 背板增强强度。 |
| 是否能制备高硬度薄膜？ | 是的，TiB 薄膜硬度高，非常适合耐磨类应用。 |
| 能否提供定制尺寸？ | 可以，根据客户图纸制作。 |
| 是否需要退火？ | 一般无需退火，但可根据薄膜结构需求选择后处理。 |
| 溅射产生颗粒的概率高吗？ | 高致密度工艺可显著降低颗粒风险。 |
| 是否适合高速切削工具涂层？ | 是，TiB/TiB₂ 系列广泛用于刀具表面强化。 |
包装与交付（Packaging）
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真空密封包装
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防震保护泡沫
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出口级木箱包装
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每片靶材附唯一编号与质检报告（纯度、密度、尺寸等）
确保在运输中保持安全、清洁与完整。
结论（Conclusion）
硼化钛靶材（TiB）凭借其高硬度、耐磨性和优异的化学稳定性，是制备高性能硬质涂层和陶瓷薄膜的重要材料。科跃材料提供高纯度、高致密度的 TiB 靶材，可满足科研实验及工业生产的多种需求。
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📧 sales@keyuematerials.com
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