硫化硅靶材（SiS）

产品简介（Introduction）

硫化硅（SiS）是一种由硅与硫形成的化合物材料，具有独特的光学、电学与化学特性。SiS 属于层状或半层状结构体系之一，在红外光学、二维材料研究、光电器件、薄膜工程以及功能性涂层制备中具有潜在应用价值。

高纯 SiS 溅射靶材可用于磁控溅射与离子束沉积（IBD）等薄膜过程，能够沉积出具有良好致密度、均匀性与可控光电性能的薄膜。其稳定的溅射行为和低颗粒（Low Particle）特性使其适用于科研与高端材料开发。

产品详情（Detailed Description）

硫化硅靶材通常通过真空烧结（Vacuum Sintering）、热压（HP）或热等静压（HIP）方法制得，以确保化合物均匀性与致密度。

● 化学式： SiS
● 纯度： 99%–99.9%（2N–3N）
● 密度： ≥85–95% 理论密度（根据工艺不同略有差异）
● 尺寸： Ø25–Ø300 mm，矩形靶可按需求定制
● 厚度： 3–6 mm，特殊尺寸可定制
● 工艺： Vacuum Sintering / Hot Pressing / HIP
● 背板（可选）： Cu / Ti 背板 或 Indium bonding
● 外观： 灰黑色或深灰色致密非金属化合物表面

应用领域（Applications）

硫化硅（SiS）薄膜在电子、光学、能源与新材料领域展现出广泛研究价值：

● 光学与红外材料

• 红外透射薄膜

• 中红外光学功能层

• 滤光片与调控薄膜

● 二维材料研究（2D Materials）

• SiS 作为层状材料，可用于 2D 电子与光电器件

• 能带结构可调的二维功能薄膜

• 纳米电子学中的新型材料研究

● 功能性涂层

• 防腐蚀层

• 光吸收薄膜

• 多层结构中的界面层

● 电子与半导体应用

• 电阻薄膜

• 固体润滑层

• 与硫化物、硅基材料共溅射形成复合膜

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封包装

• 干燥剂密封以减少分解风险

• 防震泡棉加固

• 出口级木箱包装

• 每片靶材附检测报告与批次编号

结论（Conclusion）

硫化硅靶材（SiS）凭借其独特的光电性能、层状结构潜力和优良的化合物特性，在光学薄膜、二维材料、电学功能涂层和新材料研究中具有重要价值。高致密高纯度 SiS 靶材可确保稳定的成膜质量，是科研与高端制造的理想材料选择。

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