硅化铁靶材（FeSi）

产品简介（Introduction）

硅化铁（FeSi）是一类重要的金属硅化物材料，具有优异的热稳定性、机械强度、耐腐蚀性及良好的电学与磁学特性。作为一种高性能溅射材料，FeSi 在微电子、磁性薄膜、功率器件、热电材料和功能结构涂层中得到广泛应用。

FeSi 薄膜具有稳定的电阻率、可调磁性以及良好的界面兼容性，因此也是半导体工艺中常用于电阻薄膜、缓冲层、扩散阻挡层，以及金属硅化物复合结构研究的重要材料。

高纯 FeSi 溅射靶材具有高致密度、低杂质含量、稳定溅射速率和低颗粒（Low Particle）特性，可用于科研级与工业级镀膜设备。

产品详情（Detailed Description）

硅化铁靶材通过真空熔炼、热压烧结（Hot Pressing）、热等静压（HIP）等工艺制备，以获得均匀的化学组成与优异致密度。

● 化学式： FeSi、FeSi₂（可根据需求定制）
● 纯度： 99%–99.999%（2N–5N）
● 密度： ≥95% 理论密度
● 尺寸： Ø25–Ø300 mm 圆靶；可定制矩形靶
● 厚度： 3–6 mm（可定制更薄/更厚）
● 工艺： Vacuum Melting / Hot Pressing / HIP
● 背板选项： Cu / Mo / Ti / Al，均可提供铟焊接
● 外观： 金属灰–深灰色致密合金表面

高致密 FeSi 靶材可确保稳定溅射、减少颗粒、提升膜层均匀性与功能表现。

应用领域（Applications）

硅化铁薄膜因其优异的磁性、电学与热学性能，在多个高科技领域中具有广泛用途：

● 磁性薄膜材料

FeSi 和 FeSi₂ 是常见的软磁薄膜材料，可用于：

• 磁传感器

• 电磁屏蔽层

• 自旋电子学薄膜

• 核心磁性器件研究

● 微电子与半导体工艺

• 扩散阻挡层

• 金属硅化物复合结构

• 精密电阻薄膜

• 功率器件薄膜材料

● 热电材料研究

Fe–Si 系材料具有热电性能，可用于：

• 热电薄膜

• 热管理功能层

● 功能结构涂层

• 耐腐蚀薄膜

• 结构强化薄膜

• 多层复合功能结构（如 FeSi/FeNi、FeSi/TiN 等）

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封 + 防潮包装

• 防静电、防震泡棉保护

• 出口级木箱运输

• 随附 COA 与唯一批次号

确保产品在运输中保持完好、无污染。

结论（Conclusion）

硅化铁靶材（FeSi）以其优异的电学、磁学以及结构稳定性，在微电子、磁性薄膜、热电材料与先进器件制造中具有重大价值。高纯、高致密 FeSi 靶材可显著提升薄膜性能，是科研与工业应用的理想选择。

如需 FeSi 的报价或技术资料，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com