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硅化铬靶材（CrSiₓ）是一类兼具 高温稳定性、优异耐腐蚀性、出色导电性与良好机械强度 的金属硅化物材料。常用工业相态为 CrSi₂，其具有较低的电阻率、稳定的晶体结构以及良好的薄膜附着性，是半导体薄膜、耐高温涂层与功能性电阻薄膜的重要材料。
用于磁控溅射沉积时，CrSi 靶材能够形成均匀致密、成分稳定的功能薄膜，广泛应用于微电子、电阻膜、光电领域以及高温结构膜层。
● 纯度： 99.5% – 99.99%
● 常见相态： CrSi、CrSi₂（最常用）
● 尺寸规格： Ø25–300 mm；矩形、方形、靶板可定制
● 厚度范围： 2–6 mm（可按照需求定制）
● 致密度： ≥95% 理论密度
● 制造工艺：
– 真空热压烧结（Hot Pressing）
– 冷等静压（CIP）成型
– 热等静压（HIP）进一步致密化
– CNC 精密加工、倒角处理
– 表面精磨以减少颗粒与溅射异常
● 背板可选： Cu / Ti / Al / Indium Bonding
● 外观： 深灰金属间化合物陶瓷质感
● 兼容设备： DC / RF 磁控溅射、IBAD、PVD 系统
CrSi 靶材具有优良的抗热震能力，可在高功率溅射下维持结构稳定性，适合长周期连续制程。
● 电阻薄膜（Thin Film Resistors）
CrSi₂ 具有良好的温度系数控制能力，可用于精密电阻薄膜。
● 半导体器件（Semiconductors）
用于接触层、扩散阻挡层及界面工程薄膜设计。
● 光电器件（Optoelectronics）
CrSi 系薄膜具备可调的光学常数，可用于红外应用与功能膜层。
● 耐高温保护涂层（High-Temperature Coatings）
用于高温防护、抗腐蚀结构薄膜。
● 硬质涂层（Hard Coatings）
可提升基底的耐磨性与机械性能。
● 复合薄膜结构（Multilayer Films）
适合与 Cr、CrN、Si、SiNₓ、MoSi₂ 等组合，调控电学与光学特性。
| 参数 | 数值范围 / 典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.5%–99.99% | 用于电子级薄膜的高纯材料 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配主流溅射设备 |
| 厚度 | 2–6 mm | 可按镀膜寿命需求调整 |
| 致密度 | ≥95% | 减少颗粒并提升薄膜致密性 |
| 成分比 | CrSi / CrSi₂ | 可按项目需求定制 |
| 背板 | Cu / Ti / In bonding | 改善散热与抗应力能力 |
| 材料 | 特性 | 应用方向 |
|---|---|---|
| CrSi₂ | 电阻率低、光学性能可控 | 电阻膜/光电薄膜 |
| MoSi₂ | 耐氧化性极强 | 高温保护膜 |
| CrN | 高硬度、耐磨性强 | 工具涂层 |
| Cr | 优良附着性 | 金属基底层 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| CrSi 适合 DC 溅射吗？ | 是，DC/RF 均可。 |
| 溅射过程中会产生颗粒吗？ | 高致密靶材可显著降低颗粒。 |
| 能否调节 Cr:Si 比例？ | 可按需求定制 Cr-rich 或 Si-rich。 |
| 是否能用于高温薄膜？ | CrSi₂ 具有优异的高温稳定性，非常适合。 |
| 是否支持小尺寸科研靶材？ | 可提供 ≤1″ 小样。 |
| 是否需要背板？ | 建议用于高功率工艺以避免开裂。 |
● 单片真空密封
● 防静电袋、防震泡棉保护
● 出口级木箱包装
● 附纯度检测报告、尺寸检测报告、批次追踪标签
硅化铬靶材（CrSi / CrSi₂）凭借其稳定的电学性能、优异的高温特性与抗腐蚀能力，是精密电阻薄膜、半导体结构层、光电功能膜及高温防护涂层中的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、支持定制的 CrSi 系列靶材，为科研与工业客户提供可靠的薄膜沉积解决方案。
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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