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氟化锆（ZrFₓ，常见为 ZrF₄）是一种具有高透明度、优异化学稳定性与低折射率的氟化物材料，被广泛应用于光学镀膜、光通信器件、高能激光系统以及红外窗口材料。其在宽波段范围内（尤其是紫外至红外区域）具有良好的透过性能，同时耐腐蚀、抗湿性强，是制备高性能光学薄膜的重要材料。
作为溅射靶材，ZrF 靶材可沉积低吸收率、高均匀性、应力低的薄膜，适用于晶体镀膜、光学元件涂层、红外器件以及真空紫外（VUV）窗口的薄膜制造。
苏州科跃材料科技有限公司采用高纯氟化锆原料，通过冷等静压（CIP）、热压（HP/HIP）、真空烧结及精加工等工艺制备 ZrF 靶材，使靶材具有高致密度、良好机械强度、稳定的溅射性能以及低杂质含量。
化学形态：ZrF₄（常用），其他形式可定制
纯度等级：99.9% – 99.99%（3N–4N）
靶材尺寸：Ø25–300 mm
厚度：3–10 mm
密度：≥ 90–95%（根据氟化物材料特性）
制造工艺：CIP、HP/HIP、真空固相反应、精密加工
背板：Cu / Ti 背板，可铟焊或扩散焊
形状：圆靶、矩形靶、阶梯靶、多段靶均可提供
高透明度，适用于光学薄膜
低吸收、低散射，薄膜光学性能优异
化学惰性强、湿度稳定性好
致密度高，减少溅射颗粒产生
能形成低应力、平滑且均匀的薄膜
氟化锆靶材在以下行业中应用广泛：
激光反射/透射薄膜
介质多层膜（HR、AR）
强激光系统窗口材料
宽波段光学元件镀膜
红外窗口
波导涂层
光通信器件防护膜
ZrF 薄膜具有优异紫外透过率，适用于：
VUV 光学窗口
EUV 研究型光学器件
用于：
绝缘薄膜
介电层
光电界面层
氟化物薄膜在潮湿环境中表现优异，用于：
光学器件防护涂层
腐蚀环境下的绝缘保护层
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 保证光学薄膜低吸收、低缺陷 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配主流光学溅射设备 |
| 厚度 | 3–10 mm | 影响溅射寿命与功率适配性 |
| 密度 | ≥ 90–95% | 高致密度减少颗粒，提升光学质量 |
| 背板结合 | Cu / Ti / In bonding | 提升散热与机械稳定性 |
| 制备工艺 | CIP / HIP / Vacuum Reaction | 提高结构稳定性与化学均匀性 |
| 材料 | 主要优势 | 应用 |
|---|---|---|
| ZrF₄ | 高透明、低折射率 | 光学薄膜、激光器件 |
| MgF₂ | 最低折射率之一 | AR 薄膜、窗口材料 |
| CaF₂ | 极佳透过率、稳定性高 | 红外窗口、激光系统 |
| ZrO₂ | 高折射率 | 多层干涉膜 |
| AlF₃ | 化学惰性强 | UV 涂层、光学保护层 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| ZrF 靶材适用于哪些溅射方式？ | RF / DC 均可，光学镀膜常用 RF。 |
| 氟化物靶材是否脆？ | 是，属于脆性材料，但通过 HIP 工艺可提高强度。 |
| 是否容易吸潮？ | 略有吸湿性，需真空密封保存。 |
| ZrF 薄膜能用于激光高功率系统吗？ | 可以，具有低吸收和高耐损伤能力。 |
| 是否支持定制尺寸？ | 支持 Ø25–300 mm 圆靶及方靶定制。 |
| 可以用于 VUV 或 UV 应用吗？ | 是，ZrF 具有极佳 UV/VUV 透过率。 |
| 是否支持小批量？ | 支持，一片起订，适合科研用途。 |
真空密封，防止吸湿
多层缓冲与固定结构
出口级硬箱保护运输安全
附 ICP 杂质分析、密度、尺寸检测报告
确保靶材洁净、安全地到达客户手中。
氟化锆靶材（ZrF）因其高透明性、低折射率与优异光学性能，是光学镀膜、红外设备、激光系统与 UV/VUV 器件的重要材料。苏州科跃材料可提供高纯、高致密、多规格可定制的 ZrF 靶材，满足科研与工业生产需求。
如需报价、参数表或样品，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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