氟化钇靶材（YF / YF₃）

产品简介（Introduction）

氟化钇（YF 或 YF₃）是一种高稳定性、高纯度的无机氟化物材料，具有优异的化学惰性、宽 bandgap、良好的介电性能和高透明度。由于其优良的热稳定性与光学性能，YF₃ 薄膜在光学镀膜、红外窗口、介电层、绝缘薄膜以及高功率激光光学系统中应用广泛。

作为溅射靶材，氟化钇具有低颗粒（Low Particle）生成、均匀溅射速率、稳定的等离子体响应等特点，适用于磁控溅射（RF / DC）与离子束沉积（IBD）等薄膜制程，是科研与工业光学镀膜的常用材料。

产品详情（Detailed Description）

氟化钇靶材通常通过高温烧结（Vacuum Sintering）、热压（Hot Pressing, HP）或热等静压（HIP）制造，以实现高致密度与高纯度。

● 化学式： YF₃（常用）；亦可提供 YF（特种配比）
● 纯度： 99.9%–99.999%（3N–5N）
● 密度： ≥95% 理论密度
● 尺寸： Ø25–Ø300 mm 或矩形靶（可定制）
● 厚度： 3–6 mm（可定制薄靶或厚靶）
● 制造工艺： Vacuum Sintering / HP / HIP
● 背板选项： Cu / Ti / Mo（可铟焊）
● 外观： 白色或浅灰色致密陶瓷结构，表面均匀细腻

高致密、高纯氟化钇靶材能有效降低颗粒、提升沉积速率并增强薄膜光学与介电性能。

应用领域（Applications）

氟化钇薄膜以其光学透明性与化学稳定性在多个行业具有重要应用价值：

● 光学镀膜（Optical Coatings）

• 红外光学窗口

• 高透过率薄膜

• 激光系统保护层

• 干涉滤光片（IR Cut / Bandpass）

● 半导体与电子薄膜

• 介电绝缘层

• 阻挡层

• 高电阻/低损耗薄膜

• MOS、MEMS 功能层

● 高功率激光系统

• 激光增透膜

• 激光防护涂层

• 高能量密度光学组件

● 真空镀膜 / IBD 应用

• 光通信组件

• 精密光学仪器

• 多层反射/透射结构

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 双层真空密封

• 干燥剂防潮保护

• 防震泡棉固定

• 出口级木箱保护运输

• 附 COA（纯度、密度、外观检测）与批号追踪

确保在运输及储存过程中保持靶材的洁净与完整。

结论（Conclusion）

氟化钇靶材（YF₃ / YF）凭借其优异的光学性能、化学稳定性与良好的薄膜沉积行为，是光学镀膜、红外技术、精密仪器与半导体工艺的重要材料。高致密高纯靶材可显著提升膜层质量与稳定性，是科研及工业生产的理想选择。

如需氟化钇靶材的报价或技术规格，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com