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氟化钛（TiFₓ）是一类重要的金属氟化物材料，具有高化学稳定性、宽禁带、优异的抗腐蚀能力以及良好的光学透明性。TiF 在薄膜技术中主要用于光学镀膜、保护膜、电介质层以及特殊功能层的沉积，尤其适用于要求化学惰性与低吸湿性的环境。
作为溅射靶材，TiF 可以在 RF / DC 磁控溅射系统中沉积出均匀、致密、低散射率的薄膜，适用于光学元件、红外窗口、电绝缘层及特殊应用材料研究。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度的 TiF 系溅射靶材，包括 TiF、TiF₂、TiF₃、TiF₄ 等不同价态的氟化钛材料，可满足不同薄膜性能需求。
纯度：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
常见化学组成：TiF₂ / TiF₃ / TiF₄
尺寸：Φ25–300 mm
厚度：3–6 mm
形状：圆形靶、矩形靶、阶梯靶、异形靶
制造工艺：真空烧结、热压（HP）、CIP/HIP
致密度：≥95% TD
背板：可配 Cu / Ti 背板 + 铟焊（Indium Bonding）
高化学稳定性，不易氧化
良好的光学透明性（适用于多波段光学薄膜）
低吸湿性，适合光学封装与高真空应用
可用于电绝缘层、阻挡层
与 SiO₂、MgF₂、Al₂O₃ 等光学材料兼容性好
氟化钛（TiF）溅射靶材可用于以下高端领域：
用于多层干涉膜、反射膜、减反膜、激光保护膜。
TiF 具有良好的抗腐蚀与光学稳定性，可用于红外窗口与 UV 防护膜。
用于电子器件中的高稳定性电绝缘层。
适用于耐腐蚀、耐酸、耐氟环境需求的薄膜。
用作界面层、保护层或结构调控材料。
| 参数 | 范围 / 典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 3N–4N | 高纯度确保光学膜低散射率 |
| 配方 | TiF₂ / TiF₃ / TiF₄ | 可根据光学需求定制 |
| 尺寸 | Φ25–300 mm | 兼容各种溅射靶架 |
| 厚度 | 3–6 mm | 与工艺功率匹配 |
| 致密度 | ≥95% TD | 提高薄膜均匀性与耐久性 |
| 背板 | Cu / Ti / 铟焊 | 增强散热稳定性 |
| 材料 | 特点 | 应用 |
|---|---|---|
| TiF | 抗腐蚀、光学性能稳定 | 光学膜、保护膜 |
| MgF₂ | 高透过率、低折射率 | 光学镀膜常用材料 |
| AlF₃ | 良好绝缘性 | 电绝缘薄膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| TiF 靶材适用于 RF 还是 DC？ | 多用于 RF 磁控溅射以提升膜层质量。 |
| TiF 是否吸湿？ | 吸湿性低，稳定性优良。 |
| 能否定制不同价态的氟化钛？ | 可以提供 TiF₂、TiF₃、TiF₄ 等多种材料。 |
| 是否能用于光学膜系？ | 是的，TiF 常用于 UV、VIS、IR 膜系。 |
| 是否提供背板铟焊？ | 可以按需提供 Cu/Ti 背板。 |
| 可否提供 ICP、密度等检测报告？ | 可提供全套质检文件。 |
真空密封
干燥剂保护
防震包装
出口级纸箱或木箱
附唯一溯源码与质检记录
氟化钛靶材（TiF）凭借卓越的化学稳定性、光学性能与耐腐蚀特性，被广泛应用于先进光学膜、电介质膜与保护薄膜领域。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度、多规格可定制的 TiF 系靶材，是科研与工业薄膜制程的可靠选择。
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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