您可以向我们发送询盘，以获取更多信息和最新价格。
氟化铽（TbFₓ）是一类重要的稀土氟化物材料，常见形式为 TbF₃。该材料具有优异的化学稳定性、较低的声子能量、良好的光学透明性以及突出的稀土发光特性，在光学功能薄膜、磁光材料、发光材料及先进光电器件中具有重要应用价值。
作为溅射靶材，氟化铽可在磁控溅射过程中稳定沉积高均匀性、低缺陷的功能薄膜，特别适用于对光学纯净度和化学稳定性要求较高的应用场景。
苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、可定制规格的氟化铽溅射靶材，满足科研与产业化薄膜制备需求。
纯度：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
常见化学组成：TbF₃（可按需提供其他价态氟化物）
尺寸范围：Φ25–300 mm
厚度：3–6 mm（支持定制）
形状：圆靶、矩形靶、阶梯靶、异形靶
制造工艺：真空烧结、热压（HP）、CIP/HIP
致密度：≥95% 理论密度
背板结合：Cu / Ti 背板，支持铟焊（Indium Bonding）
高化学稳定性，耐酸碱、耐腐蚀
低声子能量，利于稀土发光跃迁
良好的紫外–可见–近红外透过性能
稀土磁光与光致发光特性明显
薄膜结构致密、均匀性高
氟化铽（TbF）溅射靶材广泛应用于以下高端领域：
用于稀土掺杂光学膜、功能光学层及激光相关薄膜结构。
Tb³⁺ 具有典型绿色发光特性，适用于显示、照明与荧光薄膜研究。
铽基材料常用于磁光效应相关器件与研究。
作为功能层或辅助层用于红外窗口、探测器与光电器件。
用于稀土能级跃迁、发光机制与材料物性研究。
| 参数 | 范围 / 典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 3N–4N | 纯度越高，光学损耗越低 |
| 化学组成 | TbF₃ | 亦可定制其他 TbFₓ |
| 直径 | 25–300 mm | 适配主流溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射稳定性 |
| 致密度 | ≥95% TD | 提升薄膜致密性与均匀性 |
| 背板 | Cu / Ti / 铟焊 | 改善散热与使用寿命 |
| 材料 | 特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| TbF₃ | 稀土发光、磁光特性 | 光学膜、发光薄膜 |
| YbF₃ | 低声子能量 | 激光与红外薄膜 |
| ErF₃ | 红外发光 | 光通信、激光器 |
| MgF₂ | 高透过率、低折射率 | 光学减反膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| TbF 靶材适合 RF 还是 DC 溅射？ | 通常推荐 RF 磁控溅射。 |
| TbF 是否吸湿？ | 稀土氟化物吸湿性低，但建议真空密封保存。 |
| 能否提供 TbF₃ 以外的组成？ | 可以，支持定制 TbFₓ。 |
| 是否适合光学与发光薄膜？ | 是，TbF 是典型稀土光学功能材料。 |
| 是否可提供背板铟焊？ | 支持 Cu/Ti 背板与铟焊。 |
| 是否提供检测报告？ | 可按需提供 ICP、密度、尺寸等报告。 |
真空密封包装
干燥剂防潮保护
防震泡沫固定
出口级纸箱或木箱
每片靶材附唯一溯源码与质检记录
氟化铽靶材（TbF）凭借其优异的光学性能、稀土发光特性及高化学稳定性，在光学薄膜、磁光材料、发光器件和前沿材料研究中占据重要地位。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密、可定制的 TbF 溅射靶材，为科研与工业薄膜制备提供可靠材料支持。
如需报价或技术资料，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
您可以向我们发送询盘，以获取更多信息和最新价格。
苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
Copyright © 苏州科跃材料有限公司 苏ICP备2025199279号-1