描述
氟化镧靶材（LaF / LaF₃）
产品简介（Introduction）
氟化镧（Lanthanum Fluoride，LaF₃）是一种重要的稀土氟化物材料，具有优异的化学稳定性、宽禁带、高光学透明性以及良好的离子导电特性。LaF₃ 在紫外（UV）、可见光（VIS）和红外（IR）波段均表现出良好的透过率，是光学镀膜、红外器件、激光系统和功能介电薄膜中的关键材料。
作为溅射靶材，氟化镧具有稳定的溅射行为、低颗粒生成（Low Particle）、良好的膜层均匀性和重复性，适用于 RF 磁控溅射 及 离子束沉积（IBD） 等薄膜制程，在科研与工业光学镀膜领域中被广泛采用。
产品详情（Detailed Description）
氟化镧靶材通常采用高纯原料，通过真空烧结（Vacuum Sintering）、热压（Hot Pressing, HP）或热等静压（HIP）工艺制备，以确保高致密度和稳定的化合物结构。
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化学式： LaF₃（常用），亦可提供特殊 LaF 配比
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纯度： 99.9%–99.999%（3N–5N，可定制）
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密度： ≥95% 理论密度
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尺寸： Ø25–Ø300 mm（支持矩形靶定制）
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厚度： 3–6 mm（可定制超薄或加厚规格）
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制造工艺： Vacuum Sintering / HP / HIP
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背板选项： Cu / Ti / Mo（支持铟焊）
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外观颜色： 白色至浅灰白色致密陶瓷体，表面细腻均匀
高致密 LaF₃ 靶材可有效降低溅射颗粒，提升薄膜的光学一致性与沉积稳定性。
应用领域（Applications）
● 光学镀膜（Optical Coatings）
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紫外与红外光学窗口
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增透膜（AR Coatings）
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激光光学系统保护层
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多层干涉滤光片
● 激光与红外系统
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高功率激光器光学元件
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红外探测与成像系统
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高能量密度光学薄膜
● 半导体与电子薄膜
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介电绝缘层
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高电阻薄膜
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离子导电功能层
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MEMS 与传感器器件薄膜
● 科研与功能材料研究
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稀土氟化物薄膜研究
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离子导体与固态电解质相关研究
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与 MgF₂、CaF₂、SrF₂、YF₃ 等氟化物的多层膜设计
技术参数（Technical Parameters）
| 参数 | 典型范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.999% | 提升薄膜光学与电学性能 |
| 密度 | ≥95% TD | 高致密性减少颗粒 |
| 尺寸 | Ø25–Ø300 mm | 适配主流镀膜设备 |
| 厚度 | 3–6 mm | 可定制 |
| 熔点 | ~1493°C | 适用于高温沉积 |
| 折射率 | ~1.60（λ=550 nm） | 光学薄膜设计常用 |
| 背板 | Cu / Ti / Mo | 改善散热与机械稳定性 |
相关材料对比（Comparison with Related Materials）
| 材料 | 主要特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| LaF₃ | 折射率高、光学稳定 | 光学镀膜、激光系统 |
| YF₃ | 激光损伤阈值高 | 高功率光学 |
| SrF₂ | 宽光谱透明 | UV / IR 薄膜 |
| CaF₂ | IR 透明性优异 | 红外窗口 |
| MgF₂ | UV 透过率极高 | 紫外增透膜 |
常见问题（FAQ）
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| LaF₃ 靶材适合 RF 还是 DC？ | 属于绝缘材料，通常使用 RF 溅射。 |
| 是否容易吸湿？ | 轻微吸湿，建议真空密封保存。 |
| 可否提供 5N 超高纯度？ | 可以，支持定制。 |
| 薄膜是否透明？ | 是，可获得高透明 UV–IR 薄膜。 |
| 是否适合多层光学结构？ | 非常适合，用于 AR / HR 多层膜。 |
| 能否与其他氟化物共溅射？ | 可以，与 MgF₂、YF₃、SrF₂ 等兼容。 |
包装与交付（Packaging）
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双层真空密封包装
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干燥剂防潮保护
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防震泡棉固定
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出口级木箱运输
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附 COA 与批次追溯编号
结论（Conclusion）
氟化镧靶材（LaF₃）凭借其优异的光学透明性、稳定的化学性质和良好的薄膜沉积行为，在光学镀膜、激光系统、红外器件及先进材料研究中具有重要应用价值。高纯、高致密 LaF₃ 靶材能够显著提升薄膜质量，是科研与工业镀膜领域的可靠选择。
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📧 sales@keyuematerials.com
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