您可以向我们发送询盘，以获取更多信息和最新价格。
氟化铪（HfFₓ）是一类高性能金属氟化物材料，常见形态为 HfF₄。其具有极高的化学稳定性、优异的耐腐蚀性、宽禁带与良好的光学透明性，在先进光学镀膜、介电薄膜、保护涂层及高端半导体工艺中具有重要应用价值。
作为溅射靶材，HfF 可在 RF 磁控溅射等 PVD 工艺中稳定沉积出致密、低缺陷、成分均一的薄膜，特别适用于对材料纯净度、化学惰性与薄膜可靠性要求较高的应用场景。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度、可定制规格的氟化铪溅射靶材，满足科研与产业级薄膜制备需求。
纯度：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
常见化学组成：HfF₄（可按需求提供其他 HfFₓ 形态）
尺寸范围：Φ25–300 mm
厚度：3–6 mm（支持定制）
形状：圆靶、矩形靶、阶梯靶、异形靶
制造工艺：真空烧结、热压（HP）、CIP/HIP
致密度：≥95% 理论密度
背板结合：Cu / Ti 背板，支持铟焊（Indium Bonding）
化学稳定性极高，耐酸、耐腐蚀
宽禁带、低吸收损耗，适合光学薄膜
吸湿性低，适用于高真空与光学环境
与多种光学与介电材料兼容性好
薄膜致密、均匀性优良，适合精密工艺
氟化铪（HfF）溅射靶材广泛应用于以下领域：
用于多层干涉膜、反射膜、减反膜及激光保护膜，尤其适合紫外与可见光波段。
用于电子与光电器件中的高可靠性绝缘层与介电层。
在腐蚀性或含氟环境中提供稳定防护。
作为功能层、界面层或辅助层，用于特殊制程与材料体系研究。
用于提升器件的环境稳定性与长期可靠性。
| 参数 | 范围 / 典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 3N–4N | 高纯度可降低光学与电学损耗 |
| 化学组成 | HfF₄ / HfFₓ | 可根据应用需求定制 |
| 直径 | 25–300 mm | 兼容主流溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射稳定性与寿命 |
| 致密度 | ≥95% TD | 提升薄膜致密度与均匀性 |
| 背板 | Cu / Ti / 铟焊 | 改善散热与结构稳定性 |
| 材料 | 特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| HfF₄ | 极高稳定性、低光学损耗 | 光学膜、介电膜 |
| ZrF₄ | 光学性能优良 | 光学玻璃、镀膜 |
| MgF₂ | 高透过率、低折射率 | 减反膜 |
| AlF₃ | 良好绝缘性 | 电介质薄膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| HfF 靶材适合 RF 还是 DC 溅射？ | 通常推荐 RF 磁控溅射。 |
| HfF 是否吸湿？ | 吸湿性较低，但仍建议真空密封保存。 |
| 能否定制不同 HfFₓ 组成？ | 可以，根据应用需求提供定制方案。 |
| 是否适合光学薄膜应用？ | 是，HfF 具有低吸收与高稳定性优势。 |
| 是否支持背板铟焊？ | 支持 Cu / Ti 背板与铟焊。 |
| 是否可提供检测报告？ | 可按需提供 ICP、密度、尺寸等检测文件。 |
真空密封包装
干燥剂防潮保护
防震泡沫固定
出口级纸箱或木箱
每片靶材附唯一溯源码与质检记录
氟化铪靶材（HfF）凭借其卓越的化学稳定性、光学性能与耐腐蚀特性，在高端光学镀膜、介电薄膜及先进薄膜工艺中占据重要地位。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密、可定制的 HfF 溅射靶材，为科研与工业用户提供可靠的材料解决方案。
如需获取报价或技术资料，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
您可以向我们发送询盘，以获取更多信息和最新价格。
苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
Copyright © 苏州科跃材料有限公司 苏ICP备2025199279号-1