碳化锆靶材(ZrC)

碳化锆靶材(ZrC)

产品简介(Introduction)

碳化锆靶材(Zirconium Carbide Sputtering Target,ZrC)是一种高熔点、高硬度、优异耐腐蚀性和优良导电性的陶瓷类靶材,广泛应用于半导体、耐高温薄膜、光学镀膜、硬质涂层以及先进功能材料的薄膜制备中。
ZrC 拥有 极高热稳定性(熔点>3500°C) 与优良化学惰性,可形成致密、耐磨损、耐高温、导电性可调的薄膜,是高端制造和科研领域的重要功能材料。


产品详情(Detailed Description)

苏州科跃材料科技有限公司提供的 ZrC 靶材具有如下特点:

  • 纯度范围:
    99%–99.9%(2N–3N),可根据需求提供更高纯度。

  • 形状与尺寸:

    • 圆形靶:直径 25–300 mm

    • 方形靶、矩形靶:可按图纸定制

    • 厚度:3–6 mm(可定制)

  • 制造工艺:

    • 高纯粉末选择(纳米级/亚微米级)

    • 热压烧结(HP)、热等静压(HIP)

    • 高致密度陶瓷烧结(≥95%–99%TD)

    • 精密机械加工与表面研磨
      高致密度 ZrC 可显著减少溅射颗粒、提高薄膜均匀性与致密性。

  • 背板结合(可选):

    • 铜背板(Cu)

    • 钼背板(Mo)

    • 铟焊(In-bonding)
      降低热应力并提升大功率溅射稳定性。

ZrC 靶材表面硬度高、化学稳定性好,可适应高速、高功率、大面积镀膜系统。


应用领域(Applications)

碳化锆靶材主要用于高性能功能薄膜制备,包括:

半导体与微电子

  • 导电薄膜

  • 高耐温阻挡层

  • 电子发射相关材料

光学与光电领域

  • 吸收层薄膜

  • 热控涂层

  • 可见与红外波段吸收/反射薄膜

硬质涂层(PVD/CVD)

  • 高耐磨、耐腐蚀涂层

  • 刀具涂层、模具涂层

  • 高温防护层

新能源与极端环境材料

  • 耐高温结构薄膜

  • 航空航天热防护材料

  • 核材料相关膜层

科研领域

  • 电子结构、热稳定性研究

  • 金属碳化物体系材料开发

  • 多层结构复合膜制备


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99%–99.9% 高纯减少膜层缺陷,提升稳定性
致密度 ≥95%–99% TD 高致密度降低颗粒生成,提高膜层致密性
直径 25–300 mm 适用于各类溅射设备
厚度 3–6 mm 影响溅射速率与靶材寿命
背板结合 Cu、Mo、In-Bonding 提升散热与结构稳定性
相结构 立方 NaCl-type 结构 决定薄膜机械与电学性能

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要优势 应用
ZrC 高硬度、高熔点、耐腐蚀 耐高温涂层、硬质膜
TiC 高硬度、成本较低 刀具、耐磨膜
ZrN 金属光泽好、光学性能优 装饰膜、光学膜
TiN 附着力强、沉积容易 通用硬质涂层

常见问题(FAQ)

常见问题 答案
ZrC 靶材适合 DC 还是 RF? 两者均可,硬质陶瓷靶材更常用于 RF 溅射。
ZrC 薄膜的电阻如何? 电阻可调范围大,可通过气氛与功率控制。
是否容易产生颗粒? 高致密度 HP/HIP 工艺可显著减少颗粒。
是否支持大尺寸靶材? 可定制至 Φ300 mm。
ZrC 是否耐高温? 是,熔点 >3500°C,非常适合高温膜层。
是否适合多层膜堆叠? 可与 TiN、ZrN、CrN 等组合形成复合膜。
膜层附着力如何? 可通过基底加热与气压调节优化。
是否提供背板? 提供 Cu / Mo / 铟焊。
膜层的光学特性如何? 在可见光与 IR 区域具有可控吸收特性。
是否可用于核材料研究? 可,用于耐辐照薄膜开发。

包装(Packaging)

  • 干燥氩气或真空密封

  • 防静电袋 + 防震泡沫保护

  • 出口级木箱/纸箱

  • 单件标记批号与检测报告(COA)

确保运输储存过程中不吸潮、不破损、不污染。


结论(Conclusion)

碳化锆靶材凭借其极高的热稳定性、机械强度与化学惰性,被广泛应用于半导体、高温防护、硬质涂层、光学功能薄膜和前沿材料研究领域。高致密、高纯度的 ZrC 靶材可显著提升薄膜质量、稳定性和重复性,是先进薄膜制备不可或缺的关键材料。

如需报价或技术参数,请联系:
sales@keyuematerials.com