碳化钒靶材（VC）

产品简介（Introduction）

碳化钒靶材（Vanadium Carbide Sputtering Target，VC）是一种高硬度、高熔点、优异耐磨性和良好化学稳定性的陶瓷靶材，在硬质涂层、耐腐蚀膜层、半导体功能膜、光电材料和前沿科研领域具有重要应用价值。

VC 具有 NaCl 型立方晶体结构，机械强度高，热稳定性好，可在磁控溅射中形成致密、耐磨、附着力强且电学性能可控的薄膜，是金属碳化物体系中性能非常均衡的一种材料。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司提供高密度、高纯度碳化钒靶材，特点如下：

• 纯度：
  99%–99.9%（2N–3N）

• 尺寸范围：

  • 圆形靶材：直径 25–300 mm

  • 方形/矩形靶材：可按需求定制

  • 厚度：3–6 mm（可定制）

• 制造工艺：

  • 精选超细 VC 粉末

  • 真空热压烧结（HP）

  • 热等静压（HIP）可选

  • 高致密度结构（≥95%–99% TD）

  • 表面精研磨（Ra < 0.4 μm）
    高致密 VC 靶材可显著减少溅射过程颗粒脱落，提高膜层光滑度与一致性。

• 背板结合（可选）：

  • Cu 背板

  • Mo 背板

  • 铟焊（In-Bonding）
    用以降低陶瓷靶材的热应力，提升使用寿命与溅射稳定性。

碳化钒靶材具有适中的电导率，可用于 DC、RF 以及中高功率磁控溅射系统。

应用领域（Applications）

碳化钒靶材被广泛应用于高性能薄膜制备，包括：

硬质涂层（Cutting Tools & Wear-resistant Coatings）

• 刀具、模具、机械部件强化膜

• 高硬度耐磨膜

• 防摩擦、抗冲击涂层

半导体与微电子

• 阻挡层（Barrier Layer）

• 电极材料

• 功能性导电/半导体薄膜

光学与光电材料

• 吸收膜

• 功能性光学调控膜

• 可见光/红外光学复合膜结构

航空航天与高温材料

• 高温防护涂层

• 耐腐蚀结构薄膜

• 极端环境功能层

科研与材料开发

• 金属碳化物体系薄膜研究

• 多层结构复合膜（VC/TiN、VC/ZrN 等）

• 电学/耐磨性调控研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

• 真空密封 + 防静电袋

• 防震珍珠棉缓冲保护

• 出口级纸箱/木箱

• 每件产品附唯一编号与 COA

确保运输过程无污染、无破损、无受潮。

结论（Conclusion）

碳化钒靶材凭借其卓越硬度、优异耐磨性、优良的耐腐蚀性以及稳定的电学特性，是硬质涂层、功能薄膜与先进材料研究中的重要靶材。高纯、高致密的 VC 靶材能够提高薄膜质量、增强稳定性并提升生产效率，是高端薄膜沉积工艺的理想选择。

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