碳化钽靶材（TaC）

产品简介（Introduction）

碳化钽靶材（Tantalum Carbide Sputtering Target，TaC）是一种极高熔点（约 3880°C）、高硬度、高耐磨性和优异化学惰性的陶瓷类靶材，广泛应用于硬质涂层、极端环境防护膜、半导体功能膜、光学材料以及先进航空航天领域。

TaC 具有典型的 NaCl 型立方结构，不仅具备优异的高温稳定性，还具有良好的电导性，可在磁控溅射、IBS、HiPIMS 等多种沉积工艺中形成致密、光滑、附着力强且性能可调的薄膜，是金属碳化物体系中性能最全面的材料之一。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司提供高致密度、高纯度碳化钽靶材，特点包括：

• 纯度：
  99%–99.9%（2N–3N），可提供更高等级纯度。

• 尺寸范围：

  • 圆靶：直径 25–300 mm

  • 方形/矩形靶：按图纸定制

  • 厚度 3–6 mm，可自由选择

• 制造工艺：

  • 纳米/亚微米级 TaC 粉末

  • 真空热压烧结（HP）

  • 热等静压（HIP）达 ≥95–99% TD

  • 高精度表面研磨（Ra < 0.4 μm）
    高致密度可有效减少颗粒脱落，提升薄膜均匀性与稳定性。

• 背板结合（可选）：

  • Cu 背板

  • Mo 背板

  • 铟焊（In-Bonding）
    用于强化陶瓷靶材的散热能力并避免开裂。

TaC 靶材表面光洁、结构致密，可满足高功率、长时间磁控溅射的要求。

应用领域（Applications）

碳化钽靶材广泛用于要求极高硬度、耐磨性、耐高温性和化学惰性的场景，主要包括：

硬质涂层（Hard Coatings）

• 刀具、模具、高速钢强化膜

• 耐磨耐蚀工业部件

• 高冲击工况涂层

半导体与微电子

• 阻挡层（Barrier Layer）

• 导电薄膜

• IC 工艺保护膜

光学薄膜（Optical Coatings）

• 吸收膜

• 屏蔽层

• 多层结构光学滤膜

航空航天与高温结构

• 热防护涂层

• 极端温度耐受膜层

• 防腐蚀屏蔽薄膜

能源与科研材料

• 高频结构材料研究

• 金属碳化物体系薄膜开发

• 超高温功能涂层研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

• 真空密封 / 干燥氩气保护

• 防静电袋 + 防震泡沫

• 出口级纸箱或木箱

• 附批号、COA 与溯源标签

确保运输过程中无污染、无受潮、无破损。

结论（Conclusion）

碳化钽靶材凭借极高的热稳定性、卓越硬度、优异耐磨性和化学惰性，在硬质涂层、光学薄膜、半导体工艺和极端环境材料中具有广泛应用。高纯高致密 TaC 靶材可显著提升薄膜质量、稳定性和一致性，是高端薄膜制备中不可替代的关键材料。

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