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氧化钒靶材（VO）是一种重要的金属氧化物靶材，广泛应用于光电、半导体及高温电学薄膜制备。它在光学涂层、透明导电膜、以及电池、传感器等高性能材料中具有重要应用。氧化钒的高透明度和良好的电学性能使其成为制造先进光电设备和薄膜电池的理想材料。
VO 靶材可用于溅射生成稳定的氧化钒薄膜，广泛应用于太阳能电池、气敏材料和透明导电膜等领域，具有极高的应用潜力和市场需求。
苏州科跃材料科技有限公司提供的氧化钒靶材采用高纯度钒金属原料，通过冷等静压（CIP）成型、热等静压（HIP）或热压烧结（Hot Pressing）制备而成，保证了靶材的高纯度、均匀性和致密度。氧化钒靶材适用于高功率磁控溅射系统，能够产生均匀、致密的薄膜，满足光电、半导体以及其他高端薄膜沉积的需求。
常规规格：
纯度（Purity）：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
尺寸（Size）：直径 25–300 mm，厚度 3–6 mm（可定制）
密度（Density）：≥ 98% 理论密度（T.D.）
工艺（Process）：CIP 成型 + 热压烧结（Hot Pressing）/ HIP 致密化
背板结合（Bonding）：Cu / Ti / Mo 背板，铟焊（In Bonding）
高纯度靶材 → 确保薄膜质量高、杂质少
热稳定性好 → 能承受高温溅射过程
低孔隙率 → 薄膜结构更加致密，附着力强
高均匀性 → 提升薄膜的一致性和稳定性
氧化钒靶材主要应用于以下领域：
透明导电膜（TCO）：用于太阳能电池、透明电极等光电器件
气敏材料：用于气体传感器、电池传感器等
光学薄膜：用于反射膜、抗反射膜、紫外光电膜
透明导电薄膜：广泛用于触摸屏、显示器等领域
半导体薄膜：用于半导体器件和集成电路的薄膜制备
电子器件：在特定电子器件中应用，如电池、光电材料等
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 高纯度减少薄膜缺陷，保证性能 |
| 密度 | ≥ 98% T.D. | 增强薄膜稳定性 |
| 尺寸 | 直径 25–300 mm | 适配多种溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 可根据需求定制 |
| 背板结合 | Cu / Ti / Mo / In | 提升散热和稳定性 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| VO（氧化钒） | 良好的透明度和导电性 | TCO 薄膜、传感器、光电器件 |
| ZnO | 透明导电、环保 | 透明导电膜、气敏传感器 |
| ITO（In₂O₃:Sn） | 最高导电性和稳定性 | 高端触摸屏、显示器 |
| TiO₂ | 稳定性高，常用于光催化 | 光催化膜、电池应用 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| VO 靶材适用于哪些溅射方法？ | VO 靶材适用于 RF 磁控溅射和 DC 溅射。 |
| 氧化钒靶材的主要用途有哪些？ | 主要用于透明导电膜、气敏传感器和光电薄膜等。 |
| ZnO 与 VO 比较如何？ | ZnO 更常用于透明导电膜，而 VO 更侧重于光电与气敏薄膜应用。 |
| 是否可以定制 VO 靶材的尺寸？ | 可以，提供定制尺寸与厚度的 VO 靶材，满足不同溅射系统需求。 |
| 氧化钒薄膜的电阻如何？ | 电阻率较低，适合高效透明导电膜的制作。 |
| 高温下是否稳定？ | 是的，氧化钒靶材具有较好的热稳定性，适用于高温溅射环境。 |
| VO 靶材是否能与柔性基板兼容？ | 可以，VO 薄膜具有良好的柔性，适用于柔性电子器件。 |
| 是否提供背板结合选项？ | 是的，可提供 Cu、Ti、Mo 背板或铟焊接选项。 |
| 可否提供测试报告？ | 可以，所有靶材都附有出厂检测报告，确保质量稳定。 |
每个靶材单独真空包装
防震泡沫保护，确保运输安全
出口级木箱包装，适合长途运输
每件产品附带唯一批次号和质量检测报告
氧化钒靶材（VO）具有良好的热稳定性、透明导电性和化学稳定性，是光电、气敏、半导体薄膜制备中重要的材料之一。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高密度、可定制的氧化钒靶材，满足科研和工业需求。
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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