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氧化钽靶材（Ta₂O₅）是一种具有高熔点和极佳化学稳定性的陶瓷材料，广泛应用于光电、电子和高温设备领域。Ta₂O₅ 具有良好的电学、光学和热学性能，适用于光学涂层、薄膜电容器、气体传感器等多种高端技术应用。其优异的电绝缘性和高光学折射率使其在先进材料和薄膜沉积领域得到了广泛的应用。
氧化钽靶材在溅射过程中能够形成高质量的薄膜，尤其适用于要求高温稳定性和化学稳定性的应用环境。
苏州科跃材料科技有限公司提供的氧化钽靶材（Ta₂O₅）采用高纯度的钽金属原料，经过冷等静压（CIP）、热等静压（HIP）或高温烧结（Hot Pressing）工艺制备，确保靶材具有高密度、均匀的晶粒结构和优异的溅射性能。我们的氧化钽靶材适用于各种薄膜沉积需求，包括光学涂层、电容器、气敏材料等应用领域。
常规规格：
纯度（Purity）：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
尺寸（Size）：直径 25–300 mm，厚度 3–6 mm（可定制）
密度（Density）：≥ 98% 理论密度（T.D.）
工艺（Process）：CIP 成型 + 热压烧结（Hot Pressing）/ HIP 致密化
背板结合（Bonding）：Cu / Ti / Mo 背板，铟焊（In Bonding）
高纯度靶材 → 确保薄膜的高质量和低杂质
良好的光学性能 → 高折射率，适用于光学薄膜制备
优异的热稳定性 → 适用于高温薄膜沉积过程
均匀微观结构 → 使薄膜具有优异的电学性能和稳定性
氧化钽靶材在多个领域具有重要应用，主要包括：
光学涂层：用于反射膜、抗反射膜、光学滤光膜等
薄膜电容器：用于制造高性能电容器，尤其是薄膜电容器
气体传感器：用于气敏材料的制备，广泛应用于环境监测和工业传感器领域
集成电路：用于制造薄膜电容和其他高效能电子器件
光电设备：用于激光器、光纤等光电器件的制造
高温保护膜：适用于高温环境下的保护膜和绝缘膜
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 高纯度保证薄膜质量 |
| 密度 | ≥ 98% T.D. | 提升薄膜稳定性和致密度 |
| 尺寸 | 直径 25–300 mm | 适配多种溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 可根据需求定制 |
| 背板结合 | Cu / Ti / Mo / In | 提升散热和稳定性 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| Ta₂O₅ | 高光学折射率、良好热稳定性 | 光学薄膜、电容器、气敏传感器 |
| SiO₂ | 良好的光学透明性，成本较低 | 透明膜、光学涂层 |
| TiO₂ | 高折射率、广泛应用 | 光学薄膜、催化材料 |
| Al₂O₃ | 较高的机械强度和热稳定性 | 保护膜、耐高温材料 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| Ta₂O₅ 靶材适用于哪些溅射方法？ | Ta₂O₅ 靶材适用于 RF 磁控溅射和 DC 溅射。 |
| 氧化钽靶材的主要用途有哪些？ | 主要用于光学薄膜、薄膜电容器、气敏传感器等领域。 |
| 该靶材的折射率如何？ | 氧化钽靶材具有高折射率，适合光学膜和薄膜电容器应用。 |
| 高温下是否稳定？ | 是的，氧化钽靶材具有良好的热稳定性，适用于高温薄膜沉积。 |
| 该靶材是否适用于柔性基板？ | 是的，氧化钽薄膜适用于柔性基板的应用。 |
| 是否提供定制规格？ | 可以，提供定制尺寸、厚度和背板选项，满足不同溅射需求。 |
| 是否提供质量报告？ | 每批次产品附带详细的质量检测报告，确保质量稳定。 |
每个靶材都采用真空密封包装
防震泡沫保护，确保运输安全
出口级木箱包装，适合长途运输
每个靶材附带唯一批次号和质量检测报告
氧化钽靶材（Ta₂O₅）凭借其优异的光学性能、热稳定性和化学稳定性，广泛应用于光学薄膜、薄膜电容器和气敏传感器等领域。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高密度、多规格定制的氧化钽靶材，满足各类工业和科研需求。
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📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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