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氧化铌靶材（Nb₂O₅）是一种高性能金属氧化物，具有优异的化学稳定性、高熔点和良好的光学性能。Nb₂O₅ 作为一种重要的氧化物材料，广泛应用于电子、光电和半导体领域。它不仅在高温环境下具有卓越的稳定性，还能够在薄膜沉积过程中提供良好的光学折射率和透光性，因此广泛应用于光学涂层、电子器件、传感器以及高端陶瓷材料等领域。
氧化铌靶材在光学薄膜、激光增益介质、陶瓷材料和高温保护层的制备中发挥着重要作用。
苏州科跃材料科技有限公司提供的氧化铌靶材（Nb₂O₅）采用高纯度的铌金属原料，经过冷等静压（CIP）、热等静压（HIP）或高温烧结（Hot Pressing）工艺制备，确保靶材具有高纯度、均匀的颗粒分布和优异的溅射性能。我们的氧化铌靶材适用于高温、高功率磁控溅射系统，能够提供高质量、均匀的薄膜，适用于光学涂层、气敏材料、电池材料等高端应用。
常规规格：
纯度（Purity）：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
尺寸（Size）：直径 25–300 mm，厚度 3–6 mm（可定制）
密度（Density）：≥ 98% 理论密度（T.D.）
工艺（Process）：CIP 成型 + 热压烧结（Hot Pressing）/ HIP 致密化
背板结合（Bonding）：Cu / Ti / Mo 背板，铟焊（In Bonding）
高纯度靶材 → 提供高质量薄膜，减少杂质污染
优异的光学性能 → 高折射率和透光性，适用于光学薄膜和激光增益介质
良好的热稳定性 → 适用于高温薄膜沉积过程
均匀微观结构 → 提供稳定的薄膜质量和性能
氧化铌靶材广泛应用于以下领域：
光学涂层：用于反射膜、抗反射膜、光学滤光膜等光学薄膜
激光增益材料：用于高功率激光器、光纤激光器等
高温薄膜：适用于高温环境中的薄膜保护层或绝缘层
陶瓷材料：用于高性能陶瓷器件和电子元件
传感器材料：用于气敏传感器、电化学传感器等
透明电极材料：在液晶显示器、OLED 屏幕等领域用于透明电极
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 高纯度保证薄膜质量 |
| 密度 | ≥ 98% T.D. | 提升薄膜的稳定性和致密度 |
| 尺寸 | 直径 25–300 mm | 适配多种溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 可根据需求定制 |
| 背板结合 | Cu / Ti / Mo / In | 提升散热与稳定性 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| Nb₂O₅ | 高折射率、优异的热稳定性 | 光学薄膜、电容器、激光增益材料 |
| TiO₂ | 高折射率、光学稳定性 | 光学薄膜、催化材料 |
| ZrO₂ | 优异的电学和光学性能 | 高温材料、光学薄膜 |
| Al₂O₃ | 较高的机械强度和热稳定性 | 保护膜、陶瓷材料 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| Nb₂O₅ 靶材适用于哪些溅射方法？ | Nb₂O₅ 靶材适用于 RF 磁控溅射和 DC 溅射。 |
| 氧化铌靶材的主要用途有哪些？ | 主要用于光学薄膜、激光增益材料、电池材料和气敏传感器。 |
| 该靶材的折射率如何？ | 氧化铌靶材具有较高的折射率，适合光学薄膜和激光器应用。 |
| 高温下是否稳定？ | 是的，氧化铌靶材具有良好的热稳定性，适用于高温薄膜沉积。 |
| 该靶材是否适用于柔性基板？ | 是的，氧化铌薄膜适用于柔性基板的应用。 |
| 是否提供定制规格？ | 可以，提供定制尺寸、厚度和背板选项，满足不同溅射需求。 |
| 是否提供质量报告？ | 每批次产品附带详细的质量检测报告，确保质量稳定。 |
每个靶材都采用真空密封包装
防震泡沫保护，确保运输安全
出口级木箱包装，适合长途运输
每个靶材附带唯一批次号和质量检测报告
氧化铌靶材（Nb₂O₅）凭借其优异的光学性能、热稳定性和化学稳定性，广泛应用于光学薄膜、激光增益材料、电池材料及传感器领域。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高密度、多规格定制的氧化铌靶材，满足各类工业和科研需求。
如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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