氧化镍靶材(NiO)

氧化镍靶材(NiO)

产品简介(Introduction)

氧化镍靶材(NiO)是一种重要的金属氧化物材料,广泛应用于电子、光电、磁性材料及能源存储等领域。氧化镍靶材具有较高的热稳定性、良好的化学稳定性和电学性能,适用于薄膜沉积、气敏材料、锂电池材料以及磁性薄膜等高端应用。

氧化镍作为过渡金属氧化物,具有独特的电子结构,使其在透明导电膜、传感器以及电池电极等方面具有广泛的应用前景。


产品详情(Detailed Description)

苏州科跃材料科技有限公司提供的氧化镍靶材(NiO)采用高纯度镍金属原料,经过冷等静压(CIP)成型、热等静压(HIP)或高温烧结(Hot Pressing)工艺制备,确保靶材具有高纯度和均匀的微观结构。我们的氧化镍靶材适用于多种薄膜沉积应用,包括光学涂层、气敏传感器、锂电池材料等领域。

常规规格:

  • 纯度(Purity):99.9%(3N)– 99.99%(4N)

  • 尺寸(Size):直径 25–300 mm,厚度 3–6 mm(可定制)

  • 密度(Density):≥ 98% 理论密度(T.D.)

  • 工艺(Process):CIP 成型 + 热压烧结(Hot Pressing)/ HIP 致密化

  • 背板结合(Bonding):Cu / Ti / Mo 背板,铟焊(In Bonding)

性能优势:

  • 高纯度材料 → 确保薄膜的高质量和低杂质

  • 优异的热稳定性 → 能承受高温溅射和薄膜沉积

  • 良好的化学稳定性 → 在多种环境下保持稳定

  • 均匀微观结构 → 提供稳定的薄膜质量和性能


应用领域(Applications)

氧化镍靶材广泛应用于以下领域:

  • 透明导电膜(TCO):用于薄膜太阳能电池、触摸屏透明电极、光学薄膜等

  • 气敏材料:用于气体传感器、环境监测传感器等

  • 电池材料:作为锂电池和镍氢电池的电极材料

  • 磁性薄膜:用于磁性材料和高效磁电器件

  • 光电器件:用于光电探测器、激光器、显示器等

  • 高温薄膜:适用于高温环境中的薄膜制备和保护层


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.99% 高纯度保证薄膜质量
密度 ≥ 98% T.D. 提升薄膜稳定性
尺寸 直径 25–300 mm 适配多种溅射系统
厚度 3–6 mm 可根据需求定制
背板结合 Cu / Ti / Mo / In 提升散热与稳定性

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要优势 典型应用
NiO 良好的热稳定性、化学稳定性 TCO 薄膜、气敏传感器、电池材料
ZnO 优良的透明导电性、环保 透明导电膜、气敏传感器
CuO 良好的电子和光学特性 氧化铜传感器、电池材料
TiO₂ 高折射率、广泛应用 光学薄膜、催化材料

常见问题(FAQ)

问题 答案
NiO 靶材适用于哪些溅射方法? NiO 靶材适用于 RF 磁控溅射和 DC 溅射。
氧化镍靶材的主要用途有哪些? 主要用于透明导电膜、气敏传感器和电池材料等领域。
该靶材的电阻率如何? NiO 薄膜具有较低的电阻率,适合高效透明导电膜的制作。
是否适用于柔性基板? 是的,氧化镍薄膜具有良好的柔性,适用于柔性电子设备。
该靶材的透光率如何? NiO 薄膜具有较高的光学透过率,适合光电应用。
是否提供背板结合选项? 是的,氧化镍靶材可选择铜(Cu)、钛(Ti)或铟焊(In)背板。
是否提供定制规格? 可以,提供定制尺寸、厚度和背板选项,满足不同溅射需求。

包装与交付(Packaging)

  • 每个靶材都采用真空密封包装

  • 防震泡沫保护,确保运输安全

  • 出口级木箱包装,适合长途运输

  • 每个靶材附带唯一批次号和质量检测报告


结论(Conclusion)

氧化镍靶材(NiO)作为一种重要的透明导电材料,具有良好的电学性能和光学性能,广泛应用于光电、气敏、电子和能源材料等领域。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高密度、多规格的氧化镍靶材,满足各类工业和科研需求。

如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:
📧 sales@keyuematerials.com