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氧化铬靶材（CrO）是一种具备优异化学稳定性、电学性能和耐高温特性的功能型金属氧化物材料，广泛应用于半导体薄膜沉积、光学镀膜、耐磨涂层和催化材料领域。CrO 以其良好的硬度、导电性和热稳定性，在磁控溅射薄膜制备中表现出高致密性和稳定的成膜速率，是多种电子器件与光学组件中可靠的薄膜来源。
氧化铬材料能够提供具有良好附着力、致密性以及耐腐蚀性的薄膜，是硬质涂层、电阻膜和保护涂层制备中的重要材料。
苏州科跃材料科技有限公司提供的氧化铬靶材（CrO）以高纯金属铬为基础原料，采用冷等静压（CIP）、真空热压烧结（Hot Pressing）或热等静压（HIP）工艺制备，确保靶材具有高度均匀的微观结构、优良的溅射稳定性及优异的密度。
纯度（Purity）：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
尺寸（Size）：直径 25–300 mm（支持定制方片、圆靶、多阶形状）
厚度（Thickness）：3–6 mm（可定制）
密度（Density）：≥ 98% 理论密度（T.D.）
工艺（Process）：CIP 成型 + 热压烧结 / HIP 致密化
背板（Bonding）：可选 Cu / Ti / Mo 背板，铟焊（In Bonding）增强散热性能
靶材致密度高，薄膜均匀性优异
在宽工艺窗口（高功率、高温）下保持稳定溅射
成膜硬度高、耐磨、耐腐蚀性优良
化学稳定性佳，适用于氧化、氮化等反应性溅射
适配多种主流 PVD 设备（DC、RF、MF 等）
氧化铬靶材广泛用于：
半导体薄膜沉积
电阻膜、阻挡层、保护层
光学镀膜
反射膜、抗反射膜、滤光膜
耐磨与防护涂层
工具涂层、结构件涂层
磁性薄膜、传感器薄膜
催化与环境材料
气体传感器、催化载体
科研实验与新材料开发
| 参数 | 范围 / 典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 纯度越高，薄膜缺陷越少 |
| 密度 | ≥ 98% T.D. | 高密度提升膜层致密性 |
| 直径 | 25–300 mm | 兼容主流靶材卡盘 |
| 厚度 | 3–6 mm | 决定靶材寿命与溅射速率 |
| 背板 | Cu / Ti / Mo / In 焊接 | 提升散热与机械稳定性 |
| 材料 | 主要优势 | 应用领域 |
|---|---|---|
| CrO | 硬度高、耐磨、化学稳定性优 | 工具涂层、电阻膜 |
| Cr₂O₃ | 更高耐磨性与硬度 | 防护涂层、光学膜 |
| NiO | 更高电学调控能力 | 透明导电膜、传感器 |
| TiO₂ | 高折射率 | 光学镀膜、催化膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| CrO 靶材能用于哪些溅射工艺？ | 支持 DC、RF、MF 磁控溅射。 |
| 可否用于反应性溅射？ | 可以，适用于 O₂、Ar、N₂ 体系。 |
| 成膜性能如何？ | 膜硬度高、附着力强、均匀性好。 |
| 是否支持定制背板？ | 可以选择 Cu、Ti、Mo 或铟焊工艺。 |
| 是否适用于高功率溅射？ | 致密度高，可在高功率下稳定工作。 |
| CrO 膜层颜色？ | 常呈深灰、黑色，具体视工艺条件而定。 |
| 适用于哪些基底？ | 玻璃、Si、陶瓷、不锈钢等常见基底。 |
每片靶材均为真空密封
防震加固 + 防潮包装
出口级木箱确保国际运输安全
每片靶材附带检测报告和唯一批次号
氧化铬靶材（CrO）凭借其卓越的化学稳定性、硬度和成膜质量，在电子、光学以及耐磨涂层领域有着广泛应用。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高密度并可定制的氧化铬靶材，满足科研与工业的多场景需求。
如需报价或技术参数，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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