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氧化铋铁靶材(BiFeO)是一种重要的功能性复合氧化物材料,具备铁电性、磁性以及磁电耦合效应等多重特性,是新型电子器件与先进薄膜技术中的核心材料。BiFeO 在薄膜制备中表现稳定,可用于多铁性薄膜、铁电薄膜、光电结构以及传感器材料,是科研与高端制造中的常用靶材之一。
苏州科跃材料科技有限公司生产的 BiFeO 靶材采用高纯氧化铋与氧化铁粉末,经冷等静压(CIP)与热压烧结(Hot Pressing)或 HIP 工艺制备,靶材致密度高、结构均匀,适配 RF、DC 等多种磁控溅射系统。
规格与参数:
纯度:99.9% – 99.99%
密度:≥ 97–99% T.D.
尺寸:直径 25–300 mm(支持方片、特殊形状定制)
厚度:3–6 mm
制造工艺:CIP + 热压 / HIP 致密化
背板:Cu / Ti / Mo 背板,铟焊可选
性能优势:
高致密度,薄膜均匀性优良
稳定的多铁性与磁电耦合表现
成膜附着性佳,重复性强
适用于高真空、高功率薄膜制备环境
多铁性薄膜(BiFeO₃ 等)
铁电存储器(FeRAM)
光电薄膜结构
压电 / MEMS 器件
传感器薄膜
材料科研领域
| 参数 | 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 稳定薄膜性能 |
| 致密度 | ≥ 97–99% T.D. | 提高膜层一致性 |
| 尺寸 | 25–300 mm | 兼容主流镀膜设备 |
| 厚度 | 3–6 mm | 可定制 |
| 背板 | Cu / Ti / Mo / In | 提升散热性能 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| BiFeO 靶材可用于哪些镀膜设备? | 兼容 RF、DC、脉冲溅射等。 |
| 可用于制备 BiFeO₃ 吗? | 是的,这是最典型的应用之一。 |
| 是否可定制化学计量? | 可以定制 BiₓFeᵧO𝓏 配比。 |
| 是否能提供背板? | 可选 Cu / Ti / Mo / In 焊接。 |
| 是否附带检测报告? | 每批均提供 COA、密度与外观检验记录。 |
真空密封防污染
防震抗压包装
出口级木箱
唯一批号与检测报告随货提供
氧化铋铁靶材(BiFeO)凭借优秀的铁电性、磁性与磁电耦合特性,是科研机构与先进制造中极具价值的多铁性薄膜材料。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度、可完全定制的 BiFeO 靶材,适用于各种高端薄膜制备工艺。
如需报价请联系:
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属(3N~6N)、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案,服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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