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氧化锑靶材（SbO）是一种具有优良电学性能、光学特性与化学稳定性的功能性氧化物靶材，常用于透明导电膜、光学薄膜、气敏传感器、电极薄膜等薄膜制备领域。
由于锑元素在氧化态下具有独特的电导调控能力和高折射率，SbO 成为科研与工业薄膜沉积中广受关注的氧化物材料。
SbO 薄膜能实现良好的透明度、稳定性与可控电阻，是光电器件与化学传感中的重要材料来源。
苏州科跃材料科技有限公司提供的氧化锑靶材（SbO）采用高纯氧化锑原料，通过冷等静压（CIP）成型及真空热压（Hot Pressing）或 HIP 致密化制备，靶材结构均匀、致密度高，适用于 DC/RF 磁控溅射及反应性溅射工艺。
纯度：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
尺寸：直径 25–300 mm（支持方靶、异形靶）
厚度：3–6 mm 可定制
密度：≥ 97–99% 理论密度（T.D.）
制造工艺：CIP + 热压 / HIP
背板（Bonding）：提供 Cu、Ti、Mo 背板，支持铟焊（In Bonding）
高稳定性，不易吸湿或分解
可实现良好的透明导电薄膜
微结构均匀，提供稳定溅射速率
可用于反应性溅射与纯氧/氩气工艺
兼容多种薄膜沉积设备（DC、RF、MF）
氧化锑靶材广泛用于：
透明导电膜（TCO）
光学薄膜（IR 反射膜、滤光膜）
气敏薄膜与传感器元件
电子薄膜、阻挡层、电极层
催化材料薄膜与保护涂层
科研实验中的功能氧化物材料开发
尤其在 Sb 掺杂 SnO₂（ATO）、透明导电体系 中，SbO 是常见溅射源材料。
| 参数 | 范围 / 典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 适合光电与电子薄膜 |
| 致密度 | ≥97–99% T.D. | 提升薄膜质量 |
| 尺寸 | 25–300 mm | 适配主流溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 可按需求定制 |
| 背板 | Cu / Ti / Mo / In | 提升散热效率 |
| 材料 | 特点 | 应用 |
|---|---|---|
| SbO | 良好光学与电导调控能力 | TCO、传感器 |
| Sb₂O₃ | 更高透明度 | 光学膜、阻燃薄膜 |
| SnO₂（ATO体系） | 稳定透明导电性能 | TCO、光电器件 |
| ZnO | 低成本透明导电材料 | TCO、传感薄膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| SbO 靶材适用于哪些溅射方法？ | RF、DC、MF 均可使用。 |
| 是否适用于透明导电膜？ | 是的，可用于 ATO 类薄膜体系或电学调控薄膜。 |
| 可否制作方形靶材？ | 可以支持方片、多段式、阶梯靶等定制。 |
| 是否支持背板焊接？ | 支持 Cu/Ti/Mo 背板及铟焊。 |
| 薄膜颜色如何？ | 常呈透明浅灰或淡黄，依工艺和氧分压而变化。 |
| 是否适合反应性溅射？ | 可用于 Ar/O₂ 混合气氛溅射。 |
| 是否提供 COA？ | 所有靶材均附带成分与密度检测报告。 |
每片靶材独立真空密封
内层防震材料 + 外层加固保护
国际出口级木箱包装
附 COA 与唯一批号标签
氧化锑靶材（SbO）以其稳定的光学、电学与化学特性，在透明导电膜、光学薄膜、传感器及电子材料领域具有重要价值。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度的 SbO 靶材，并支持尺寸、配比与背板定制，满足科研与工业客户的多样需求。
如需报价，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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