钒铝靶材（VAl）

产品简介（Introduction）

钒铝靶材（VAl）由钒（V）与铝（Al）组成，是一种轻量化、高延展性、具备优秀耐腐蚀性能与高温稳定性的金属合金靶材。V–Al 合金结合了钒的良好延展性与机械强度，以及铝的轻质、高导热与抗氧化特性，使其成为功能薄膜、工程保护膜和光电结构膜的优选材料。

钒铝靶材常用于要求薄膜附着力强、内部应力低、耐热性高且稳定性好的薄膜制备工艺，尤其适合多层金属复合结构。

产品详情（Detailed Description）

钒铝靶材采用高纯钒、铝原料，经 冷等静压（CIP） 成型后通过 真空烧结（Vacuum Sintering） 或 热等静压（HIP） 致密化，能够获得均匀的合金组织与优良的机械稳定性。材料具有高致密度（≥95–98% TD）、低颗粒率，可适用于 DC/RF 磁控溅射系统。

典型规格：

• 纯度（Purity）：99.9% – 99.99%

• 成分比例（Composition）：可定制，如 V70Al30、V60Al40、V50Al50 等

• 直径（Diameter）：Ø25–Ø300 mm

• 厚度（Thickness）：3–6 mm

• 致密度（Density）：≥95%–98% TD

• 制造工艺（Process）：CIP + 真空烧结 / HIP

• 背板（Bonding）：可选 Ti / Cu 背板或铟焊结构

材料特性：

• 轻质高强度结构

• 优良耐腐蚀性（特别是氧化环境）

• 成膜均匀，颗粒率低

• 粘附力强，适合作为结构过渡膜

• 高温下稳定性好

• 良好延展性，提高薄膜机械可靠性

应用领域（Applications）

钒铝靶材在光学、结构膜及工程薄膜领域具有广泛用途：

1. 工程保护膜（Engineering Protective Films）

• 耐腐蚀保护层

• 耐磨金属膜

• 高温结构薄膜

2. 光电应用（Optoelectronics）

• 光学保护层

• 反射膜结构

• 多层复合薄膜过渡层

3. 半导体与电子薄膜（Semiconductor Films）

• 粘附层

• 金属复合膜

• 功能结构薄膜

4. 科研与材料开发

• 轻量化金属薄膜

• 合金界面研究

• 多层结构控制实验

兼容 DC 磁控溅射、RF 溅射、反应溅射（O₂ / N₂）、共溅射 等工艺路线。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

所有 VAl 靶材均采用：

• 真空密封

• 防震泡沫与干燥剂

• 防腐保护包装

• 出口级硬箱 / 木箱运输

• 唯一批次编码可追踪

确保靶材在运输与储存过程中保持洁净与完好。

结论（Conclusion）

钒铝靶材（VAl）凭借其轻量化、耐腐蚀、成膜稳定性优异等优势，在先进薄膜工程和光电领域发挥重要作用。苏州科跃材料科技有限公司可提供不同成分、规格与背板选项，满足科研和工业用户对高性能 VAl 合金靶材的需求。

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