钛铝钒靶材（TiAlV）

产品简介（Introduction）

钛铝钒靶材（TiAlV）由钛（Ti）、铝（Al）和钒（V）组成，是一种兼具高强度、轻量化、耐高温性能与优异耐腐蚀性的多元素合金靶材。该材料与工业常见的钛合金（如 Ti-6Al-4V）的特性相近，具有出色的机械稳定性、薄膜附着力和结构可靠性，被广泛应用于耐磨薄膜、高温结构薄膜、航空航天涂层、光学膜及电子结构膜。

TiAlV 晶体结构稳定、化学相容性好，可沉积出低应力、高致密度、附着力强的金属薄膜，是多层金属复合体系中常用的基础材料之一。

产品详情（Detailed Description）

TiAlV 靶材采用高纯钛粉、铝粉和钒粉，通过冷等静压（CIP）成型，再经真空烧结（Vacuum Sintering）或热等静压（HIP）工艺实现致密化。成品具备：

• 组织均匀

• 低夹杂

• 高致密度（≥95–98%）

• 稳定的溅射性能
  适用于大功率 DC/RF 磁控溅射。

典型规格与参数：

• 纯度（Purity）：99.9%–99.99%

• 常见成分比例（Composition）：

  • Ti-6Al-4V（最常用）

  • Ti-5Al-2.5V

  • TiAlV 定制比例

• 直径（Diameter）：Ø25–Ø300 mm

• 厚度（Thickness）：3–6 mm

• 致密度（Density）：≥95–98% TD

• 工艺路线（Process）：CIP + 真空烧结 / HIP

• 背板（Bonding）：可选 Cu / Ti 背板、铟焊（In Bonding）

材料性能特点：

• 高强度、轻量化

• 低颗粒率，高膜层致密性

• 高温稳定、抗氧化能力强

• 与 Si、玻璃、ITO、金属基底粘附力佳

• 适合多层结构膜（作为中间层或主层）

• 电阻率稳定，可用于电子结构膜

应用领域（Applications）

钛铝钒靶材适用于需要结构稳定性、耐磨、高温耐受及良好机械强度的薄膜系统：

1. 航空航天薄膜（Aerospace Thin Films）

• 结构增强薄膜

• 轻量化金属层

• 耐热涂层（高温环境）

2. 工程与耐磨薄膜（Engineering & Hard Coatings）

• 耐磨层

• 机械强化膜

• 金属保护层

3. 光学镀膜（Optical Coatings）

• 金属基础层

• 光学保护膜

• 高反射或复合结构

4. 半导体与电子薄膜（Semiconductors）

• 金属结构层

• 阻挡层 / 过渡层

• 多层堆叠中的粘附层

5. 科研与多元素薄膜开发

适用于：

• 多元素薄膜体系研究

• 轻量化金属复合膜

• 反应性溅射（Ti/Al/V 氧化物、氮化物薄膜）

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

• 真空密封

• 防震泡沫层

• 干燥剂防潮保护

• 出口级硬箱或木箱

• 全程可追踪批次标签

确保靶材运输过程中的稳定与洁净。

结论（Conclusion）

钛铝钒靶材（TiAlV）凭借其高强度、耐热性和优异的机械稳定性，在航空、光学、工程薄膜和半导体结构膜等领域具有广泛应用。苏州科跃材料科技有限公司可提供全配比 TiAlV 靶材，并支持定制尺寸与背板结构。

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