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锆铟靶材(ZrIn)由锆(Zr)与铟(In)组合而成,是一种兼具高耐蚀性、优异光学性能、低颗粒输出与高膜层密着性的高端合金溅射靶材。Zr 赋予材料出色的化学稳定性和机械强度,In 则提供良好的导电性、低熔点和高光学透明度,使 ZrIn 薄膜在光电器件、半导体、电极层与功能薄膜中表现优异。
ZrIn 靶材特别适用于高均匀性、高致密度薄膜的沉积,是光学镀膜、新型显示及先进材料研发中的高价值薄膜源材料。
ZrIn 靶材通常采用高纯锆粉与铟锭,通过均匀混料、冷等静压(CIP)、真空烧结(Vacuum Sintering)或热等静压(HIP)工艺制备而成。材料致密度高,微结构均匀,具备优异的溅射稳定性及极低颗粒率。
纯度(Purity): 99.9% – 99.99%
可定制成分比例(Composition):
Zr80In20
Zr70In30
Zr60In40
或根据需求定制任意 Zr/In 比例
尺寸范围(Size):
直径 Ø25–300 mm(支持定制)
厚度 3–6 mm(薄靶可定制)
成型工艺(Process): CIP + Vacuum Sintering / HIP
致密度(Density): ≥95%–98% 理论密度
背板(Bonding): 可提供 Cu / Ti 背板或铟焊结合
高膜层致密性与均匀性
极低颗粒率(适合高端光学镀膜)
良好的电学稳定性
优异的光学透过率与折射率特性
高耐腐蚀性与化学稳定性
可用于反应性溅射(氧化物 / 氮化物薄膜)
反射膜
透光膜
抗反射结构膜
红外/可见光波段功能膜
ZrIn 兼具结构稳定性与光学可调性,是多层光学膜的理想材料。
缓冲层
电极层
介质保护层
过渡金属薄膜结构
OLED / MicroLED 结构膜
薄膜电阻 / 电极材料
传感器结构层
适合用于:
Zr-In 氧化物 / 氮化物薄膜研究
多层结构薄膜设计
透明电极类材料开发
兼容 DC / RF 磁控溅射、共溅射、反应性溅射。
| 参数 | 数值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 减少薄膜缺陷,提高膜层稳定性 |
| 成分 | Zr/In 可定制 | 影响光学、电学与机械性质 |
| 密度 | ≥95–98% TD | 高致密度降低薄膜颗粒 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射寿命与成膜速率 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配科研和量产设备 |
| 背板 | Cu / Ti / In | 提升散热和结构强度 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| ZrIn 是否适合光学薄膜? | 是,非常适合多层光学膜工程。 |
| 颗粒率表现如何? | 极低,适合高端光学与显示行业。 |
| 可否定制 Zr/In 比例? | 任意比例皆可定制。 |
| 是否可进行反应性溅射? | 可形成 ZrInOx / ZrInNx 功能膜层。 |
| 是否需要背板? | 大尺寸靶材建议 Cu/Ti 背板增强散热。 |
真空密封
防静电与防潮包装
泡棉防震保护
出口级硬质纸箱 / 木箱
附唯一批号与检测信息
锆铟靶材(ZrIn)兼具光学、电学与结构稳定性,是显示技术、光学镀膜、半导体和科研领域的优选材料。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯、高致密、可定制化的 ZrIn 靶材,是薄膜材料供应的可靠合作伙伴。
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📩 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属(3N~6N)、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案,服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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