锆铟靶材(ZrIn)

锆铟靶材(ZrIn)

产品简介(Introduction)

锆铟靶材(ZrIn)由锆(Zr)与铟(In)组合而成,是一种兼具高耐蚀性、优异光学性能、低颗粒输出与高膜层密着性的高端合金溅射靶材。Zr 赋予材料出色的化学稳定性和机械强度,In 则提供良好的导电性、低熔点和高光学透明度,使 ZrIn 薄膜在光电器件、半导体、电极层与功能薄膜中表现优异。

ZrIn 靶材特别适用于高均匀性、高致密度薄膜的沉积,是光学镀膜、新型显示及先进材料研发中的高价值薄膜源材料。


产品详情(Detailed Description)

ZrIn 靶材通常采用高纯锆粉与铟锭,通过均匀混料、冷等静压(CIP)、真空烧结(Vacuum Sintering)或热等静压(HIP)工艺制备而成。材料致密度高,微结构均匀,具备优异的溅射稳定性及极低颗粒率。

典型参数:

  • 纯度(Purity): 99.9% – 99.99%

  • 可定制成分比例(Composition):

    • Zr80In20

    • Zr70In30

    • Zr60In40

    • 或根据需求定制任意 Zr/In 比例

  • 尺寸范围(Size):

    • 直径 Ø25–300 mm(支持定制)

    • 厚度 3–6 mm(薄靶可定制)

  • 成型工艺(Process): CIP + Vacuum Sintering / HIP

  • 致密度(Density): ≥95%–98% 理论密度

  • 背板(Bonding): 可提供 Cu / Ti 背板或铟焊结合

材料特性:

  • 高膜层致密性与均匀性

  • 极低颗粒率(适合高端光学镀膜)

  • 良好的电学稳定性

  • 优异的光学透过率与折射率特性

  • 高耐腐蚀性与化学稳定性

  • 可用于反应性溅射(氧化物 / 氮化物薄膜)


应用领域(Applications)

1. 光学镀膜(Optical Coatings)

  • 反射膜

  • 透光膜

  • 抗反射结构膜

  • 红外/可见光波段功能膜

ZrIn 兼具结构稳定性与光学可调性,是多层光学膜的理想材料。


2. 半导体薄膜(Semiconductors)

  • 缓冲层

  • 电极层

  • 介质保护层

  • 过渡金属薄膜结构


3. 显示与光电器件(Displays & Optoelectronics)

  • OLED / MicroLED 结构膜

  • 薄膜电阻 / 电极材料

  • 传感器结构层


4. 功能薄膜与科研(R&D Functional Films)

适合用于:

  • Zr-In 氧化物 / 氮化物薄膜研究

  • 多层结构薄膜设计

  • 透明电极类材料开发

兼容 DC / RF 磁控溅射、共溅射、反应性溅射


技术参数(Technical Parameters)

参数 数值 / 范围 重要性说明
纯度 99.9–99.99% 减少薄膜缺陷,提高膜层稳定性
成分 Zr/In 可定制 影响光学、电学与机械性质
密度 ≥95–98% TD 高致密度降低薄膜颗粒
厚度 3–6 mm 影响溅射寿命与成膜速率
直径 Ø25–300 mm 适配科研和量产设备
背板 Cu / Ti / In 提升散热和结构强度

常见问题(FAQ)

问题 答案
ZrIn 是否适合光学薄膜? 是,非常适合多层光学膜工程。
颗粒率表现如何? 极低,适合高端光学与显示行业。
可否定制 Zr/In 比例? 任意比例皆可定制。
是否可进行反应性溅射? 可形成 ZrInOx / ZrInNx 功能膜层。
是否需要背板? 大尺寸靶材建议 Cu/Ti 背板增强散热。

包装(Packaging)

  • 真空密封

  • 防静电与防潮包装

  • 泡棉防震保护

  • 出口级硬质纸箱 / 木箱

  • 附唯一批号与检测信息


结论(Conclusion)

锆铟靶材(ZrIn)兼具光学、电学与结构稳定性,是显示技术、光学镀膜、半导体和科研领域的优选材料。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯、高致密、可定制化的 ZrIn 靶材,是薄膜材料供应的可靠合作伙伴。

如需报价,请联系:
📩 sales@keyuematerials.com