描述

铁镍靶材（FeNi）

产品简介（Introduction）

铁镍靶材（FeNi）由铁（Fe）与镍（Ni）组成，是软磁薄膜、磁传感器、电磁屏蔽、微电子封装与高精度电子薄膜中广泛使用的关键合金靶材之一。Fe 提供良好的磁性基础与结构强度，Ni 则提供延展性、耐腐蚀性以及稳定的磁性能，使 FeNi 在可控磁性、低矫顽力、高磁导率等方面表现出色。

FeNi 合金（如经典的 Permalloy 80/20）作为软磁材料已有百年历史，是现代磁性薄膜器件与磁存储技术的核心材料之一。

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产品详情（Detailed Description）

FeNi 靶材采用高纯铁粉与高纯镍粉混合，经球磨、冷等静压（CIP）压制成型，再通过真空烧结（Vacuum Sintering）或热等静压（HIP）制备，以获得高致密度（≥95–99% TD）、均匀微结构和低氧含量。靶材适用于 DC 与 RF 磁控溅射，成膜均匀、颗粒率低、磁性稳定。

典型参数：

• 纯度（Purity）：99.9%–99.99%

• 常见成分比例（Composition）：

  • Fe20Ni80（Permalloy 80/20）

  • Fe30Ni70

  • Fe50Ni50

  • 可按需求定制任意 Fe/Ni 比例

• 直径（Diameter）：Ø25–300 mm

• 厚度（Thickness）：3–6 mm（支持超薄靶材）

• 致密度（Density）：≥95–99% 理论密度

• 制造工艺（Process）：CIP + Vacuum Sintering / HIP

• 背板（Bonding）：铟焊 / Cu 背板 / Ti 背板

材料特点：

• 优异软磁性能（低矫顽力、高磁导率）

• 磁性稳定性高，可控饱和磁化强度

• 成膜均匀、颗粒率低、表面平整

• 出色的电磁屏蔽性能

• 良好的韧性与耐腐蚀性

• 可进行反应性溅射（FeNi-N / FeNi-O 薄膜）

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应用领域（Applications）

1. 软磁薄膜（Soft Magnetic Thin Films）

• 磁头材料（Read/Write Head）

• 磁阻元件（GMR / TMR 前体层）

• 高频磁性薄膜

• 信号调制磁性结构

Fe20Ni80 是行业公认的软磁材料标准之一。

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2. 传感器（Sensors）

• 霍尔传感薄膜

• 电磁感应器件

• 磁场调制薄膜

• 压力、应变传感器磁性结构层

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3. 电磁屏蔽与封装（EMI Shielding & Packaging）

• EMI 屏蔽层

• 封装粘附层 / 过渡层

• 金属化层堆叠的磁性补偿层

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4. 集成电路与微电子器件

• 磁性互连薄膜

• 微机电系统（MEMS）磁结构

• 低应力金属薄膜层

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5. 光学薄膜与多层结构（Optical & Functional Films）

• 吸收层

• 多层光学膜中间层

• 金属保护膜

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技术参数（Technical Parameters）

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材料对比（Comparison）

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常见问题（FAQ）

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包装（Packaging）

• 全密封真空包装

• 干燥剂防潮

• 多层泡棉防震

• 出口级硬质纸箱 / 木箱

• 每片产品附唯一批号与检验记录

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结论（Conclusion）

铁镍靶材（FeNi）以其独特的软磁特性、低矫顽力、高磁导率及优异成膜质量，广泛应用于磁性薄膜、传感器、电磁屏蔽、精密电子薄膜及多层功能膜领域。苏州科跃材料科技有限公司可提供各种成分比例、尺寸与背板定制方案，为科研与产业用户提供高可靠性的软磁靶材解决方案。

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