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铬钛靶材(CrTi)由铬(Cr)与钛(Ti)组成,是一种兼具轻量化、高机械强度、优异耐腐蚀性与良好附着性能的二元工程合金靶材。铬具有极佳的耐腐蚀性和金属粘附能力,而钛具备轻质、高比强度以及抗氧化特性,两者结合后可形成结构致密、应力低、附着力强的金属薄膜,适用于半导体、光学镀膜、电子器件和工程保护膜等领域。
CrTi 是一种适用于功能层、结构层与耐腐蚀层的高稳定性合金靶材。
铬钛靶材采用高纯 Cr 与 Ti 原料,经粉末冶金工艺生产,包括混粉、球磨、冷等静压(CIP)、真空烧结或热等静压(HIP)。该工艺可实现 95–99% TD 的致密度,确保在磁控溅射过程中具有良好均匀性和极低颗粒率。
纯度(Purity):99.9% – 99.99%
常见成分比例(Composition):
Cr90Ti10
Cr80Ti20
Cr70Ti30
可按需求定制比例 Cr/Ti 比例
直径(Diameter):Ø25 – 300 mm
厚度(Thickness):3 – 6 mm(可做薄靶)
致密度(Density):≥95–99% TD
制造工艺(Process):CIP + Vacuum Sintering / HIP
背板(Bonding):Cu / Ti / In Bonding
轻量化薄膜(Ti 贡献)
高耐腐蚀、耐氧化性能(Cr 贡献)
良好的膜层附着性
稳定电学特性
结构致密,表面颗粒率极低
可用于 DC / RF 溅射
支持大量程反应性溅射(CrTi-N、CrTi-O 薄膜)
粘附层(Adhesion Layer)
扩散阻挡层
结构层
功能金属化层
中间层(金属/介质过渡层)
耐腐蚀光学保护膜
工程结构光学膜
耐腐蚀薄膜
耐磨结构层
轻质强化金属膜
控应力薄膜
功能复合膜(金属 + 氧化物/氮化物)
电子封装薄膜
CrTi 合金体系优化研究
高附着力工程膜开发
CrTi-N / CrTi-O 功能薄膜研究
| 参数 | 范围 / 数值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 确保薄膜纯度与稳定性 |
| Cr/Ti 比例 | 可定制 | 调节应力、耐蚀性与结构性能 |
| 致密度 | ≥95–99% TD | 减少颗粒,薄膜更致密 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响寿命与沉积速率 |
| 背板 | Cu / Ti / Indium | 提升散热能力与结构支撑 |
| 材料 | 优势 | 应用 |
|---|---|---|
| CrTi | 轻质 + 耐蚀 + 良好附着性 | 半导体、光学、工程膜 |
| Cr(铬) | 耐腐蚀、附着性强 | 粘附层 |
| Ti(钛) | 轻质、高强度、抗氧化 | 结构层、耐蚀膜 |
| CrV | 强耐腐蚀、应力低 | 精密功能膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| CrTi 薄膜附着力好吗? | 是,Cr 的特性让附着力非常强。 |
| 是否支持 RF 溅射? | 完全支持 DC / RF。 |
| Cr/Ti 比例可否定制? | 可按工艺需求调整比例。 |
| CrTi 是否适合粘附层? | 是,在光学、半导体中广泛使用。 |
| 是否可用于反应性溅射? | 可形成 CrTi-O / CrTi-N 等功能膜。 |
| 是否能做大尺寸靶材? | 可提供 Ø200–300 mm 及矩形靶材。 |
真空密封防氧化
干燥剂吸湿保护
多层防震结构
出口级硬质包装
每片靶材附唯一批号与可追溯检测记录
铬钛靶材(CrTi)以其轻质、耐腐蚀、强附着性与优异成膜性能,在半导体、光学膜层、工程保护薄膜及材料研究领域具有重要应用。苏州科跃材料科技有限公司可提供高密度、高纯度的 CrTi 靶材,并支持定制成分、尺寸及背板焊接,是科研与量产客户的可靠选择。
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