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铬镍靶材（CrNi）由铬（Cr）与镍（Ni）组成，是一种兼具优异耐腐蚀性、稳定电学性质、良好成膜性能与结构稳定性的多用途合金靶材。铬提供高附着性与优异的抗氧化性，镍则赋予延展性、高韧性和广泛兼容的电学特性，使 CrNi 合金薄膜在电子器件、精密电阻、光学镀膜、工程保护层及半导体工艺中广泛应用。
凭借稳定的电阻率、低内应力与良好的薄膜均匀性，CrNi 是工程金属薄膜与功能层的重要材料之一。
高纯 Cr 与 Ni 经混粉、球磨、CIP 冷等静压、真空烧结或 HIP 热等静压制备，可达到 95–99% TD 的致密度，使 CrNi 靶材在溅射过程中具备低颗粒、稳定输出和高膜层均匀性。
纯度（Purity）：99.9% – 99.99%
常见成分比例（Composition）：
Cr20Ni80（最常见）
Cr30Ni70
Cr40Ni60
支持任意 Cr/Ni 比例定制
尺寸（Diameter）：Ø25–300 mm
厚度（Thickness）：3–6 mm（提供薄片）
致密度（Density）：≥95–99% TD
制造方法（Process）：CIP + Vacuum Sintering / HIP
背板选择（Bonding）：Cu / Ti / Al / In Bonding（铟焊）
中等稳定电阻率，适合电阻薄膜
良好的附着性（来自 Cr）
优异延展性与稳定性（来自 Ni）
稳定成膜、颗粒率低
抗腐蚀能力强
兼容 DC 与 RF 磁控溅射
电阻网络薄膜
可调阻材料层
温度系数稳定的电阻层
CrNi 是电子电阻薄膜的经典材料。
粘附层（Adhesion Layer）
扩散阻挡层
结构金属化层
传感器金属膜
结构层
中间层（Interlayer）
高附着性耐蚀金属膜
耐腐蚀保护膜
轻微耐磨结构层
多层金属工程膜
CrNi-O / CrNi-N 反应性溅射薄膜
成分调控型工程膜
多层金属复合结构研究
| 参数 | 数值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 提升电学与耐蚀性能 |
| Cr/Ni 比例 | 可定制 | 调控电阻率、附着性、结构特性 |
| 致密度 | ≥95–99% TD | 低颗粒 + 高均匀度 |
| 厚度 | 3–6 mm | 决定靶材寿命与沉积速率 |
| 背板 | Cu / Ti / In | 提升散热与抗开裂能力 |
| 材料 | 特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| CrNi | 耐蚀 + 稳定电性 + 易成膜 | 电阻膜、结构层、光学膜 |
| Ni（镍） | 延展性佳 | 电极、电接触层 |
| Cr（铬） | 附着力强、耐腐蚀 | 保护层、粘附层 |
| NiCr（镍铬） | 电阻更稳定 | 电阻薄膜、加热膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| CrNi 薄膜的电阻率稳定吗？ | 稳定，可用于电阻与结构薄膜。 |
| Cr/Ni 比例能否定制？ | 可以按电性或附着性需求调整。 |
| 是否适合 RF 溅射？ | 完全适用。 |
| CrNi 是否易氧化？ | 轻微，但包装后可长期储存。 |
| 是否支持大尺寸靶材？ | 可提供 2–12 英寸及矩形靶材。 |
| 膜层附着力好吗？ | 来自 Cr 的特性，附着性极佳。 |
真空密封防氧化
防震多层保护结构
干燥剂吸附防潮
出口级木箱/纸箱包装
附唯一批号与检测记录
铬镍靶材（CrNi）凭借其优良耐腐蚀性、稳定电阻特性、良好附着力与优秀成膜质量，广泛应用于电阻薄膜、半导体、光学镀膜及工程金属保护膜。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、可定制成分的 CrNi 溅射靶材，满足科研和量产需求。
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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