铈钆靶材（CeGd）

产品简介（Introduction）

铈钆靶材（CeGd）是由铈（Ce）与钆（Gd）元素组成的稀土合金靶材，因其独特的磁光性能、可调控的电子结构和优异的化学稳定性，广泛应用于光学镀膜、磁光存储、功能薄膜制备以及先进材料研究。铈具有良好的光学响应，钆则具备显著磁性及高中子吸收能力，两者结合可实现多种复合特性，是科研与工业薄膜沉积中具有重要价值的材料。

CeGd 在 DC、RF 以及反应性溅射环境下表现稳定，可形成具有高度均匀性和低缺陷率的功能薄膜。

产品详情（Detailed Description）

铈钆靶材通过真空熔炼、粉末冶金（PM）、热等静压（HIP）或冷等静压（CIP）等工艺制备，确保靶材具备高致密度、均一显微结构和可靠的成膜一致性。

常规规格

• 纯度（Purity）：99.9%–99.99%

• 组成比例（Ce/Gd）：可按比例定制（Ce80Gd20、Ce70Gd30、Ce50Gd50 等）

• 直径（Diameter）：25–300 mm

• 厚度（Thickness）：2–6 mm（支持薄片加工）

• 制造工艺：真空熔炼 / CIP + 烧结 / HIP

• 背板（Bonding）：可提供 In、Cu、Ti 背板

性能优势

• 稀土合金特有的磁光耦合效应

• 优异的光学调制能力

• 膜层均匀性高，颗粒率极低

• 易于调控薄膜成分

• 可用于活性气氛中反应性溅射（CeGd-O、CeGd-N 薄膜）

应用领域（Applications）

1. 磁光存储（Magneto-Optical Storage）

• MO 器件

• 光磁读写膜层

• 多层磁光结构

Ce 与 Gd 的组合使其在磁光记录介质中表现突出。

2. 光学镀膜（Optical Coatings）

• 光调制膜

• 光吸收/反射控制结构

• 光谱调控膜层

在特定波段具有独特吸收和折射特性。

3. 功能氧化物薄膜（Functional Oxide Films）

通过反应性溅射可形成：

• CeGdOx

• CeRich Oxides

• 稀土复合氧化物层

用于光学、催化和能源领域。

4. 电子与半导体技术（Semiconductor Applications）

• 稀土掺杂薄膜

• 调控能带结构的功能层

• 介电薄膜研究

5. 科学研究（R&D）

• 稀土薄膜体系探索

• Ce–Gd 合金相结构研究

• 磁光复合材料开发

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

CeGd 是否适合 RF 溅射？
是，适用于 RF、DC 磁控溅射。

Ce/Gd 比例可调吗？
可以按磁光特性、光学需求灵活定制。

是否易氧化？
稀土材料易氧化，需真空密封运输与保存。

能否制备大尺寸靶材？
支持 Ø200 mm、Ø300 mm 定制。

CeGd 可以反应性溅射吗？
可以，用于制备氧化物、氮化物功能薄膜。

包装（Packaging）

• 双层真空封存

• 防氧化保护

• 干燥剂吸湿

• 抗震泡沫 + 木箱出口包装

• 单独标识与追溯标签

结论（Conclusion）

铈钆靶材（CeGd）凭借其磁光、光学及稀土复合特性，在磁光存储、光学薄膜及功能材料研发中具有显著优势。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密 CeGd 靶材，并支持各种尺寸与比例定制。

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