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钇靶材（Y Sputtering Target）是一种高纯度稀土金属靶材，因其优异的化学稳定性、良好的导电性和独特的光学性能，被广泛应用于半导体、光学镀膜、储能及超导薄膜等领域。钇（Yttrium）具有较高的熔点和良好的热稳定性，是制备氧化钇（Y₂O₃）、钇铁石榴石（YIG）等功能薄膜的重要金属源材料。
钇靶材采用纯度 99.9%–99.99% 的金属钇，通过真空熔炼、热等静压（HIP）及精密机械加工制备而成。材料组织致密、纯净度高，表面经过镜面抛光，确保溅射过程均匀稳定。钇具有良好的延展性与加工性，可提供多种形状（圆形、矩形、环形）及定制尺寸。
为提高溅射时的导热性能与机械强度，靶材可与铜（Cu）、钛（Ti）或铟焊（In Bonding）背板结合，确保高功率磁控溅射时的稳定性。
半导体与电子器件：用于制备钇氧化物、钇氮化物等薄膜材料。
光学镀膜：应用于高折射率光学膜、滤光膜及红外反射膜。
磁光与光电子器件：用于制备YIG（钇铁石榴石）薄膜，用于磁光调制器和光隔离器。
能源与储能：用于燃料电池电极及离子导体膜。
科研实验：用于高温超导、介电膜与复合薄膜研究。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 高纯度有助于降低薄膜缺陷率 |
| 熔点 | 1526 °C | 适合中高温溅射环境 |
| 密度 | 4.47 g/cm³ | 影响溅射速率与膜层致密性 |
| 尺寸 | 25 – 300 mm（可定制） | 兼容主流真空镀膜设备 |
| 厚度 | 3 – 6 mm | 决定靶材使用寿命与沉积速率 |
| 背板结合 | 铜 / 钛 / 铟焊 | 提升导热性与机械稳定性 |
| 制造工艺 | 真空熔炼 + HIP | 提高致密度与结构均匀性 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 钇（Y） | 高纯稳定、易氧化、适合制备氧化物薄膜 | 功能薄膜、光学膜 |
| 钇氧化物（Y₂O₃） | 高折射率与优良绝缘性 | 光学镀膜、电介质层 |
| 钇铁石榴石（YIG） | 优异磁光特性 | 光通信与磁存储器件 |
| 钽（Ta） | 良好化学稳定性 | 电极与阻挡层 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| 钇靶材适用于哪些溅射方式？ | 可用于直流（DC）与射频（RF）磁控溅射系统。 |
| 钇靶材是否易氧化？ | 是，需在真空或惰性气氛中保存与使用。 |
| 钇靶材主要形成哪类薄膜？ | 常用于制备Y₂O₃、YIG、YAlO₃等氧化物和石榴石结构薄膜。 |
| 是否可用于透明导电膜？ | 可与氧化物共溅射制备透明介电膜或复合结构。 |
| 是否可与其他靶材共溅射？ | 可以，与Fe、Ga、Sc、In等共溅射制备复合功能薄膜。 |
| 是否能提供带背板版本？ | 可根据客户要求采用铜或钛背板，提高导热性。 |
| 溅射时需要注意什么？ | 应避免空气暴露，并控制氧分压以防氧化层生成。 |
| 是否支持定制尺寸？ | 支持多种规格与形状定制。 |
| 钇靶材可用于科研实验吗？ | 是，常用于材料科学与光电研究项目。 |
| 储存条件是什么？ | 建议真空密封保存，避免潮湿与氧气接触。 |
钇靶材在洁净环境中加工与检测后，以真空密封方式包装，并加装防震泡沫与防潮铝箔袋。外层采用出口级木箱包装，确保运输安全。所有产品均附带唯一追溯编号与检测报告。
钇靶材以其高纯度、优异化学稳定性及多功能特性，在磁光、光电与新能源薄膜制备中发挥重要作用。无论科研还是产业化生产，Y 靶材均是制备高性能功能膜层的可靠选择。
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