描述
钼铟靶材(MoIn)
产品简介(Introduction)
钼铟靶材(MoIn)由高熔点金属钼(Mo)与延展性优良的铟(In)组成,是一种兼具高温稳定性、可控电阻率与良好结构特性的功能型合金靶材。钼具有极高的熔点、硬度和抗腐蚀性,而铟具备低熔点、优异润湿性和良好导电性。两者结合后的 MoIn 靶材表现出更佳的成膜稳定性、界面结合性和可控薄膜特性。
MoIn 薄膜常用于光电薄膜、电极金属层、阻挡层及多层结构膜,是磁控溅射与薄膜研究领域中较具潜力的功能材料。
产品详情(Detailed Description)
MoIn 靶材通常通过真空熔炼、热压烧结(HP)、冷等静压(CIP)与热等静压(HIP)制备,以确保材料组织均匀、杂质含量低和致密度高。精密表面加工确保其在 DC / RF 磁控溅射过程中的放电稳定性。
● 典型规格参数
-
纯度(Purity): 99.9% – 99.99%
-
常见成分比(Composition,可定制):
-
Mo-5%In
-
Mo-10%In
-
Mo-20%In
-
亦可按原子比或重量比完全定制
-
-
尺寸(Size): Ø25–300 mm,或定制矩形靶
-
厚度(Thickness): 2–6 mm(可制薄靶)
-
工艺(Process): Vacuum Melting / HP / CIP / HIP
-
背板(Bonding): Cu / Ti / In 背板可选
● 材料特性
-
优异的高温稳定性与抗热冲击能力
-
膜层附着性强
-
导电性可调控
-
结构致密、颗粒率低
-
适合制备 MoIn-O / MoIn-N 反应性薄膜
-
在高功率溅射下放电稳定
应用领域(Applications)
1. 光电薄膜(Optoelectronic Thin Films)
MoIn 可用于:
-
金属功能层
-
导电结构膜
-
薄膜太阳能电池底电极
-
光电器件中间层
2. 半导体金属薄膜(Semiconductor & IC Films)
钼的高温稳定性 + 铟的界面柔性,使 MoIn 适用于:
-
阻挡层(Barrier Layer)
-
接触金属层(Contact Layer)
-
多层金属堆栈膜(Stacked Films)
3. 耐腐蚀与结构保护膜(Protection & Barrier Coatings)
MoIn 薄膜能提供:
-
良好耐蚀性
-
抗氧化性能
-
较高硬度
-
结构稳定性
用于:
-
精密器件防护膜
-
机械部件表面强化
4. 科研与材料工程(R&D Applications)
适合:
-
金属-低熔点合金复合膜研究
-
可控制薄膜电阻率研究
-
多层膜界面工程
-
稀有金属功能材料探索
技术参数(Technical Parameters)
| 参数 | 数值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 科研级要求 |
| 致密度 | ≥98–100% TD | 溅射稳定、缺陷少 |
| 厚度 | 2–6 mm | 支持薄靶 |
| 配比 | Mo-In 可定制 | 控制强度/电阻/膜结构 |
| 背板 | Cu / Ti / In | 提升散热性能 |
材料对比(Comparison)
| 材料 | 特点 | 应用 |
|---|---|---|
| MoIn | 高温稳定 + 可调导电性 | 光电膜、阻挡层 |
| Mo | 高温强度极高 | 半导体、硬膜 |
| In | 柔性好、导电佳 | 接触层、透明膜 |
常见问题(FAQ)
1. MoIn 是否适合 RF 溅射?
适合,可用于 DC / RF / HiPIMS。
2. 可否做大尺寸靶材?
可以,Ø200 mm、Ø300 mm 均可生产。
3. MoIn 膜层能否耐受高温?
具备优良热稳定性,可用于高温退火系统。
4. 是否支持反应性溅射?
支持制备氧化、氮化复合薄膜。
5. 成分可否自由定制?
可根据您的工艺需求调整铟含量。
包装(Packaging)
-
真空密封
-
干燥剂防潮
-
多层防震包装
-
出口级硬箱或木箱
-
每片靶材附带 COA 与唯一批号
结论(Conclusion)
钼铟靶材(MoIn)结合了钼的高温性能与铟的柔性与导电特性,是光电薄膜、半导体金属层与结构保护膜的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司长期提供高纯度、高致密度 MoIn 靶材,支持全尺寸与成分定制。
如需报价,请联系:
📩 sales@keyuematerials.com
.png)
评价
目前还没有评价