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硅（Silicon, Si）是电子工业中最重要的半导体材料之一，具有优异的电学、热学与光学特性。硅靶材作为磁控溅射与PVD工艺中的核心材料，广泛应用于半导体器件、显示技术、太阳能电池以及光学镀膜等领域。其沉积形成的薄膜具有高纯度、良好附着性和优异的电学均匀性，是现代信息与能源产业不可或缺的基础材料。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度硅靶材（纯度99.999%–99.9999%，即5N–6N），采用区熔硅或单晶硅原料，通过精密切割与抛光工艺制备，表面光洁度高、杂质含量极低。
可提供掺杂（P型、N型）与非掺杂（Intrinsic）两种类型的靶材，适配直流（DC）与射频（RF）磁控溅射系统。
背板结合可选铜（Cu）、钛（Ti）或弹性体（Elastomer Bonding），以增强散热与结构稳定性。
高纯度、低氧低碳杂质含量；
兼容多种溅射设备（DC/RF/PVD系统）；
可提供掺杂硅（P、N型）及本征硅靶材；
表面精密研磨抛光，溅射均匀性优良；
可根据客户需求提供多规格定制。
半导体器件：用于介电层、电极层及晶体管结构制备；
光伏能源：用于太阳能电池活性层与抗反射层；
显示技术：用于TFT-LCD与OLED电极层；
光学镀膜：用于反射镜、滤光片及透光膜制备；
科研与功能材料：用于Si基复合薄膜及纳米结构研究。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 5N – 6N（99.999%–99.9999%） | 高纯度确保薄膜电子性能稳定 |
| 掺杂类型 | P型 / N型 / Intrinsic | 根据应用需求选择导电类型 |
| 直径 | 25 – 300 mm（可定制） | 适配主流溅射系统 |
| 厚度 | 3 – 6 mm | 影响膜厚与溅射速率 |
| 电阻率 | 10⁻³–10³ Ω·cm（可定制） | 调控电学性能 |
| 背板结合 | Cu / Ti / Elastomer | 提高热导性与机械稳定性 |
| 制备工艺 | 单晶切片 + 抛光 + 清洗 | 表面洁净度高，膜层一致性好 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| 硅靶材可用于哪些溅射系统？ | 可用于直流（DC）、射频（RF）及中频（MF）磁控溅射系统。 |
| 是否可提供掺杂硅靶材？ | 可以，提供P型（B掺杂）或N型（P掺杂）硅靶材。 |
| 靶材沉积的薄膜特性如何？ | 形成的薄膜纯度高、致密度高、附着力强。 |
| 是否适合用于光伏行业？ | 是的，广泛应用于太阳能电池和光学镀膜。 |
| 是否提供背板焊接？ | 可选铜、钛或弹性体结合，增强散热性能。 |
| 可否提供定制尺寸？ | 可根据设备要求提供Ø25–Ø300 mm定制。 |
| 是否可用于多层共溅射？ | 可与Ti、Al、W等材料共溅射形成复合薄膜。 |
| 是否提供掺杂电阻率参数？ | 可根据客户要求指定目标电阻率范围。 |
| 包装方式？ | 真空密封、防震、防静电包装，确保运输安全。 |
硅靶材是高科技产业中最关键的溅射材料之一，其高纯度与优异电学性能确保了薄膜器件的稳定性与可靠性。苏州科跃材料科技有限公司可提供科研级与工业级硅靶材，支持掺杂与背板定制，满足半导体、光伏与显示行业的高标准需求。
如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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