铑靶材(Rh)

铑靶材(Rh Sputtering Target)

产品简介

铑(Rhodium, Rh)是一种稀有的铂族贵金属,具有极高的反射率、硬度和化学稳定性。其优异的导电性、耐高温性与抗腐蚀性使其成为高性能薄膜制备的重要材料之一。铑靶材常用于光学镀膜、电子元件、电接触层及装饰镀膜领域,尤其在高反射镜与高端光学系统中具有不可替代的地位。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度铑靶材(纯度99.95%–99.99%),采用真空熔炼及热等静压(HIP)工艺制备,晶粒均匀、致密性高,表面光洁度优异。
可提供圆形、矩形、环形及定制异形靶材,兼容DC(直流)与RF(射频)磁控溅射系统。
根据客户需求,可配备铜(Cu)、钛(Ti)或铟焊(In Bonded)背板结合,以提高散热效率与机械稳定性。

技术特点

  • 高纯度、低杂质含量;

  • 致密均匀结构,溅射均匀性优异;

  • 高反射率(可达90%以上,400–800 nm范围);

  • 优异的抗氧化与抗腐蚀性能;

  • 可根据客户需求定制尺寸与形状。

应用领域

  • 光学镀膜:用于高反射镜、滤光片及红外反射膜;

  • 电子器件:用于电极层、电接触与导电层;

  • 装饰镀膜:用于高档钟表、汽车零件与光学装饰涂层;

  • 能源材料:用于燃料电池电极与催化层;

  • 科研实验:用于贵金属复合膜及高反射结构研究。

技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.95% – 99.99% 高纯度确保薄膜光学与电学性能稳定
直径 25 – 300 mm(可定制) 适配主流溅射系统
厚度 3 – 6 mm 影响溅射速率与膜厚均匀性
密度 ≥ 12.41 g/cm³ 致密性高,薄膜均匀性优良
背板结合 Cu / Ti / In 焊 提高热导性与机械稳定性
制备工艺 真空熔炼 + HIP / CIP 结构致密、杂质少、寿命长

常见问题(FAQ)

问题 答案
铑靶材可用于哪些溅射系统? 兼容DC与RF磁控溅射系统,适合高真空镀膜设备。
铑靶材沉积的薄膜有哪些特性? 具有极高反射率、耐磨性及优异导电性。
是否可用于红外或光学反射膜? 是的,铑薄膜在红外与可见光区均有出色反射性能。
是否支持背板焊接? 可提供Cu、Ti或In焊结合,提升散热与结构稳定性。
是否容易氧化? 铑化学稳定性极高,不易氧化。
可否定制尺寸与形状? 可根据客户需求提供定制规格。
是否适用于装饰用途? 是的,广泛用于高端装饰镀膜与光学反射层。
包装方式? 采用真空密封、防震、防潮包装,确保洁净运输。

结论

铑靶材以其卓越的反射率、导电性与耐蚀性,在光学、电子及新能源领域中具有独特优势。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度铑靶材及背板定制服务,确保优异的膜层质量与长期稳定性,广泛服务于科研及高端制造领域。

如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:
📧 sales@keyuematerials.com