镁靶材（Mg Sputtering Target）

产品简介

镁（Magnesium, Mg）是一种轻质金属，具有优异的导热性、电导性和化学活性。其低密度和良好的成膜特性，使镁靶材在光学镀膜、电子器件、能源材料以及防护涂层领域具有广泛应用。镁靶材可用于制备MgO绝缘膜、Mg合金薄膜及高透光功能层，是薄膜制备与材料研究的重要基础材料之一。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度镁靶材（纯度99.9%–99.99%），采用真空熔炼及冷等静压（CIP）工艺制造，结构致密、晶粒细小，表面平整光洁，溅射性能稳定。
靶材可提供圆形、矩形及异形结构，适配直流（DC）与射频（RF）磁控溅射系统。
根据客户需求，可配备铜（Cu）或钛（Ti）背板结合，以增强散热性能与机械强度。

技术特点

• 高纯度（3N–4N），杂质含量低；

• 低密度、高导电、导热性好；

• 成膜速率快，膜层均匀性优异；

• 易于合金化，可制备Mg-Al、Mg-Ca等复合靶；

• 可定制不同形状与尺寸。

应用领域

• 光学镀膜：用于MgO、MgF₂透明保护膜与反射膜；

• 电子与半导体：用于绝缘层、钝化层及功能涂层；

• 能源材料：用于储氢材料与电极薄膜；

• 防护涂层：用于抗腐蚀、轻量化镀层结构；

• 科研实验：用于新型Mg基功能薄膜与合金研究。

技术参数

常见问题（FAQ）

结论

镁靶材以其轻质、高导电与优良光学性能，在光学、电子与能源领域中应用广泛。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度镁靶材及专业背板结合方案，确保优异的溅射效率与膜层质量，为科研与工业客户提供高性能薄膜材料解决方案。

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📧 sales@keyuematerials.com