镧靶材（La Sputtering Target）

产品简介

镧（Lanthanum, La）是一种银白色稀土金属，具有优良的延展性、电导性及化学活性。作为稀土元素族中的重要成员，镧靶材在电子、光电、能源与催化等领域具有广泛应用。其制备的薄膜常用于高介电常数材料、掺杂氧化物、透明导电膜和储能器件中，是高性能薄膜制备中不可或缺的稀土金属靶材之一。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度镧靶材（纯度99.9%–99.99%），采用真空熔炼与热等静压（HIP）工艺制造，组织致密、晶粒细小、杂质含量低。
靶材可提供圆形、矩形及异形规格，适配直流（DC）与射频（RF）磁控溅射系统。
根据客户需求，可提供铜（Cu）、钛（Ti）或铟焊（In Bonded）背板结合，以提高散热与机械稳定性。

技术特点

• 高纯度（3N–4N），减少薄膜缺陷与杂质污染；

• 致密均匀结构，溅射速率与膜层厚度稳定；

• 优异的导电性与热稳定性；

• 可用于复合靶设计（La-Sr、La-Al、La-Ni等）；

• 支持多种规格定制。

应用领域

• 半导体与电子器件：用于高介电常数膜（La₂O₃）、电极层与阻挡层；

• 光学镀膜：用于光学滤光膜与高折射率膜层；

• 能源材料：用于燃料电池电极与储能薄膜；

• 稀土功能膜：用于LaAlO₃、LaNiO₃、LaMnO₃等功能氧化物薄膜制备；

• 科研实验：用于稀土掺杂薄膜与高介电材料研究。

技术参数

常见问题（FAQ）

结论

镧靶材凭借其优异的稀土电学与光学特性，在高介电常数材料、功能氧化物及能源薄膜领域中占据重要地位。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度镧靶材及背板焊接服务，确保薄膜制备的稳定性与高性能表现，广泛应用于科研与高端制造。

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