钬靶材(Ho)

钬靶材(Ho Sputtering Target)

产品简介

钬(Holmium, Ho)是一种稀有的银白色稀土金属,具有强磁性、高中子吸收截面和优良的光学特性。钬靶材因其独特的稀土电子结构,在磁性薄膜、光学镀膜、半导体以及科研实验领域中具有广泛应用。钬基薄膜常用于磁光材料、掺杂激光介质及光学滤波结构中,是高性能功能薄膜制备的重要原材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度钬靶材(纯度99.9%–99.99%),采用真空熔炼与热等静压(HIP)工艺制造,组织致密、晶粒均匀、溅射稳定性优异。
靶材可提供圆形、矩形及异形规格,兼容DC(直流)与RF(射频)磁控溅射系统。
可选铜(Cu)、钛(Ti)或铟焊(In Bonded)背板结合,以提高散热性能和机械强度。

技术特点

  • 高纯度(3N–4N),薄膜缺陷率低;

  • 致密结构,膜层均匀性优异;

  • 良好的磁光响应性能;

  • 稳定的化学特性,易形成均匀稀土薄膜;

  • 可定制尺寸、形状与背板结合方式。

应用领域

  • 磁性薄膜:用于稀土磁光材料、GMR/TMR器件;

  • 光学镀膜:用于光滤膜及红外反射膜;

  • 半导体与电子工业:用于掺杂层及功能电极膜;

  • 能源与科研材料:用于稀土复合膜及磁冷材料研究;

  • 激光技术:用于Ho掺杂发光介质与波导材料。

技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.9% – 99.99% 高纯度减少杂质,提高薄膜性能
直径 25 – 300 mm(可定制) 适配主流溅射系统
厚度 3 – 6 mm 影响沉积速率与膜层厚度
密度 ≥ 8.79 g/cm³ 致密性高,溅射稳定性好
背板结合 Cu / Ti / In 焊 提升散热性能与结构强度
制备工艺 真空熔炼 + HIP 微结构均匀,寿命长,溅射效率高

常见问题(FAQ)

问题 答案
钬靶材可用于哪些溅射系统? 适用于DC与RF磁控溅射系统。
钬靶材沉积的薄膜有哪些特性? 具有磁光效应、良好附着力及稀土特性。
是否可与其他材料共溅射? 可以,与Fe、Co、Y、Dy等共溅射制备复合薄膜。
是否易氧化? 钬易氧化,建议在真空或惰性气氛中储存。
是否支持背板焊接? 可提供Cu、Ti或In焊结合,以提升热传导。
是否适用于光学镀膜? 是的,广泛用于红外反射膜和磁光调制膜。
可否定制规格? 可提供Ø25–Ø300 mm及矩形靶材定制。
包装方式? 采用真空密封、防震、防潮包装,确保洁净运输。

结论

钬靶材以其独特的磁学与光学特性,在磁光、光学与能源领域中具有重要应用价值。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度的Ho靶材及专业背板结合服务,确保溅射稳定、膜层均匀,是科研与高端制造客户的理想选择。

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