锗靶材（Ge Sputtering Target）

产品简介

锗（Germanium, Ge）是一种灰白色半导体金属，具有优异的红外透过性能、高折射率与良好的导电性。锗靶材因其出色的电学和光学特性，被广泛应用于红外光学镀膜、半导体器件、太阳能电池及光通信领域。其制备的薄膜具有高透光率、稳定的折射率及优异的附着性，是红外光学与电子工业中关键的功能材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度锗靶材（纯度99.999%–99.9999%），采用真空熔炼与精密加工工艺制备，晶粒均匀、结构致密、表面光洁度高，溅射稳定性优异。
靶材可提供圆形、矩形及异形结构，适配直流（DC）与射频（RF）磁控溅射系统。
可选铜（Cu）、钛（Ti）或铟焊（In Bonded）背板结合，以增强热传导与机械稳定性。

技术特点

• 超高纯度（5N–6N），薄膜清洁度高；

• 溅射速率稳定、膜层均匀性好；

• 优异的红外透光性与导电性能；

• 致密结构，附着力强；

• 支持多种规格、形状与背板定制。

应用领域

• 红外光学：用于红外窗口、透镜与反射膜；

• 半导体器件：用于掺杂层、电极与互连结构；

• 太阳能电池：用于多结太阳能电池及吸收层；

• 光通信：用于红外波导与光纤镀膜；

• 科研实验：用于Ge基复合薄膜及红外功能材料研究。

技术参数

常见问题（FAQ）

结论

锗靶材凭借其优异的光学、电子与化学性能，是红外光学、半导体及光通信领域中的核心材料。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度的Ge靶材及背板焊接服务，确保膜层性能优异、溅射稳定性高，是科研与高端制造客户的理想选择。

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📧 sales@keyuematerials.com